Главная страница
Навигация по странице:

  • Описание установки Расчетные формулы

  • Расчет концентрации электронов в образце n

  • -типа ; измерила индукцию магнитного поля в зазоре электролита с помощью

    		•

    18. определение постоянной холла. Цель работы


    Скачать 108.5 Kb.
    Название18. определение постоянной холла. Цель работы
    Дата10.05.2023
    Размер108.5 Kb.
    Формат файлаdoc
    Имя файла18.doc
    ТипДокументы
    #1118907

    18. ОПРЕДЕЛЕНИЕ ПОСТОЯННОЙ ХОЛЛА.
    Цель работы. Определение постоянной Холла и концентрации носителей заряда для полупроводника из германия с проводимостью n– типа. Измерение индукции магнитного поля в зазоре электромагнита с помощью датчика Холла.

    Описание установки



    Расчетные формулы :


    1. ЭДС Холла Е



    где Rx - постоянная Холла; пр - продольный ток через пластину; В - индукция магнитного поля в зазоре электромагнита; d - толщина пластины, d=0,2мм. Здесь . В нашем случае  = 1, о = 4 10-7 Гн/м.

    1. Расчет концентрации электронов в образце n:



    где e - заряд электрона, e = 1,6·10-19Кл.

    3.Коэффициент наклона прямой к оси абсцисс



    1. Постоянная Холла



    где К – Коэффициент наклона прямой к оси абсцисс

    В - индукция магнитного поля в зазоре электромагнита; d - толщина пластины, d=0,2мм.

    5. Идукция магнитного поля в зазоре электромагнита



    где К – Коэффициент наклона прямой к оси абсцисс , d - толщина пластины, d=0,2мм. .

    Rx - постоянная Холла .

    Э

    Таблица измерений:

    Сила тока через электромагнит,А

    I , мА
    E 1 ,В
    Е 2 , В
    Е хл. , В

    2.0
    1,5
    0,078
    0,079
    0,0785

     
    2
    0,103
    0,104
    0,1035

     
    2,5
    0,13
    0,131
    0,1315

     
    3
    0,153
    0,154
    0,1535

     
    3,5
    0,178
    0,179
    0,1785

     
    4
    0,206
    0,207
    0,2065

     2.5
    1,5
    0,095
    0,096
    0,0955

     
    2
    0,124
    0,125
    0,1245

     
    2,5
    0,155
    0,156
    0,1555

     
    3
    0,184
    0,185
    0,1845

     
    3,5
    0,214
    0,215
    0,2145

     
    4
    0,248
    0,249
    0,2485

    3.0
    1,5
    0,112
    0,113
    0,1125

     
    2
    0,146
    0,147
    0,1465

     
    2,5
    0,183
    0,184
    0,1835

     
    3
    0,216
    0,217
    0,2165

     
    3,5
    0,251
    0,252
    0,2515

     
    4
    0,19
    0,191
    0,1905

     3.5
    1,5
    0,127
    0,128
    0,1275

     
    2
    0,167
    0,168
    0,1675

     
    2,5
    0,209
    0,21
    0,2095

     
    3
    0,247
    0,248
    0,2475

     
    3,5
    0,288
    0,289
    0,2885

     
    4
    0,33
    0,331
    0,335

    4.0
    1,5
    0,144
    0,145
    0,1455

     
    2
    0,189
    0,19
    0,1895

     
    2,5
    0,234
    0,235
    0,2345

     
    3
    0,285
    0,286
    0,2855

     
    3,5
    0,322
    0,323
    0,3225

     
    4
    0,373
    0,374
    0,3735

    Пример расчета:



    K=0,0785/1,5=0,0523.

    . В нашем случае  = 1, о = 4 10-7 Гн/м.

    H=96000 А/м.

    B=4*3,14*10 *9600=120576*10 .



    R =0,0523*0,2/120576*10 =0,867.



    где e - заряд электрона, e = 1,6·10-19Кл.

    n=1/1,6*10 *0,867=7,2.



    B=0,0523*0,2/0,867=0,012.

    Вычисление погрешности.


    1. K=const R =(K*d/B)

    R =1*120576*10 -0,2*1/(120576*10 ) =0,001.

    1. .d=const R =(K*d/B)

    R =1*120576*10 -0, 0523*1/(120576*10 ) =0,001

    1. B=const R =(K*d/B)

    R =1*0,2+0,0523*1=0,2

    R =0,001+0,001+0,2=0,202

    Вывод :определила постоянную Холла ,она равна 0,867 0,2 и концентрацию носителей заряда для полупроводника из германия с проводимостью

    . n-типа ; измерила индукцию магнитного поля в зазоре электролита с помощью

    датчика Холла.

    написать администратору сайта