Главная страница
Навигация по странице:

  • Собственное поглощение света

  • Поглощение света носителями заряда

  • Примесное оптическое поглощение

  • Поглощение света кристаллической решеткой

  • Релаксация фотопроводимости

  • Зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения

  • Спектральная зависимость фотопроводимости

  • Основы построения схем в пакете Quartus II. 3.5_Оптические_и_фотоэлектрические_явления_в_полупроводниках. Конспект лекций спбгэту лэти, 2021 г. 5 Оптические и фотоэлектрические явления в полупроводниках


    Скачать 0.97 Mb.
    НазваниеКонспект лекций спбгэту лэти, 2021 г. 5 Оптические и фотоэлектрические явления в полупроводниках
    АнкорОсновы построения схем в пакете Quartus II
    Дата08.05.2023
    Размер0.97 Mb.
    Формат файлаpdf
    Имя файла3.5_Оптические_и_фотоэлектрические_явления_в_полупроводниках.pdf
    ТипКонспект
    #1115037


    Материалы электронной
    техники
    А. В. Соломонов, В. С. Сорокин,
    Б. Л. Антипов, Н. П. Лазарева
    Конспект лекций
    СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2021 г.

    3.5 ОПТИЧЕСКИЕ И ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ ЯВЛЕНИЯ
    В ПОЛУПРОВОДНИКАХ
    Поглощение света
    Свет, проникая в полупроводник, вступает с кристаллической решеткой во взаимодействие, связанное с обменом энергий. Обозначим через 𝐼 интенсивность света, т. е. количество световой энергии, проходящей в единицу времени через нормальное к световому потоку единичное сечение полупроводника. Часть све- тового потока отражается от границы раздела. Доля отраженной энергии характе- ризуется коэффициентом отражения 𝑅 = 𝐼
    𝑅
    𝐼
    0
    ⁄ (рис. 3.17).
    Рисунок 3.17 – Поглощение света в полупроводнике
    Интенсивность света, проходящего через полупроводник, ослабляется вслед- ствие процесса поглощения. Ослабление интенсивности означает уменьшение числа фотонов в световом пучке.
    Выделим на глубине 𝑥 от поверхности полупроводника бесконечно тонкий слой d𝑥. Количество световой энергии d𝐼, поглощенное слоем d𝑥, пропорцио- нально интенсивности света, падающего на этот слой, и его толщине (см. рис. 3.17): d𝐼 = −α𝐼d𝑥,
    (3.51) где α – коэффициент пропорциональности.
    В выражении (3.51) знак минус указывает на убыль энергии, коэффициент пропорциональности α называется показателем поглощения. Он характеризует относительное изменение интенсивности излучения на единице длины. Интегри- руя выражение (3.51), получим
    𝐼(𝑥) = 𝐼
    1
    exp(−α𝑥),
    (3.52) где 𝐼
    1
    – интенсивность света, входящего через поверхность образца,
    𝐼
    1
    = 𝐼
    0
    (1 − 𝑅).
    Формула (3.52) известна в физике как закон Бугера–Ламберта. Из нее сле- дует, что величина, обратная показателю поглощения α
    −1
    , численно равна тол- щине слоя, на которой интенсивность проходящего света уменьшается в 𝑒 раз.

    Таким образом, показатель поглощения имеет размерность, обратную длине, т. е. м
    –1
    . Величину α
    −1
    часто называют глубиной поглощения излучения или средней длиной свободного пробега фотонов в веществе.
    При нормальном падении световых лучей для слабо поглощающих сред ко- эффициент отражения может быть рассчитан по известной формуле:
    𝑅 = (𝑛 − 1)
    2
    (𝑛 + 1)
    2

    ,
    (3.53) где 𝑛 – показатель преломления, численное значение которого зависит от частоты излучения.
    В области минимального поглощения для большинства полупроводников
    𝑛 = 3…4. Таким показателям преломления соответствуют коэффициенты отраже- ния 𝑅 = 25…36 %.
    Зависимость показателя поглощения α от длины волны излучения или от энергии фотонов называют спектром оптического поглощения вещества. Погло- щение света в полупроводниках может быть связано с изменением состояния как свободных, так и связанных электронов, а также с изменением колебательной энергии атомов решетки. В связи с этим различают несколько механизмов погло- щения. Каждому из них соответствует определенная область спектра.
    Собственное поглощение света
    Оно обусловлено переходами электронов из валентной зоны в зону проводи- мости, т. е. энергия фотонов в этом случае идет на ионизацию собственных ато- мов полупроводника (рис. 3.18).
    Рисунок 3.18 – Схема электронных переходов при различных механизмах
    оптического поглощения:
    1 – собственное поглощение; 2 – фотоионизация доноров; 3 – фотоионизация акцепторов;
    4 – фотонейтрализация доноров; 5 – фотонейтрализация акцепторов; 6 – поглощение
    свободными электронами; 7 – поглощение дырками; 8 – межпримесное поглощение;
    пунктирные линии характеризуют возбужденное состояние примесных атомов

    Собственное поглощение возможно в том случае, когда энергия фотонов пре- вышает ширину запрещенной зоны. В зависимости от ширины запрещенной зоны оно проявляется в инфракрасной, видимой или даже в ультрафиолетовой областях спектра.
    Как уже отмечалось в разд. 3.3, при оптических переходах электронов из од- ного состояния в другое существуют определенные правила отбора, обусловлен- ные законами сохранения энергии и импульса. Разрешенными являются лишь вертикальные оптические переходы, происходящие без изменения волнового век- тора электрона. Характер оптических переходов, а соответственно, и форма спек- тра определяются зонной структурой полупроводника. Область спектра вблизи
    ℎν = ∆Э называют краем собственного поглощения. На рис. 3.19 показаны в срав- нении спектры собственного поглощения чистых полупроводниковых материа- лов, обладающих различной зонной структурой.
    Рисунок 3.19 – Спектры собственного поглощения чистых кристаллов германия, кремния и
    арсенида галлия (сплошные линии соответствуют 𝑇 = 300 К, пунктирные – 𝑇 = 77 К)
    В кристаллах с прямой структурой энергетических зон (например, GaAs) край собственного поглощения формируется прямыми оптическими переходами электронов из валентной зоны в зону проводимости. Показатель поглощения в этом случае очень резко возрастает с увеличением энергии фотонов. Это объяс- няется увеличением плотности начальных и конечных состояний электронов, для которых выполняются правила отбора. Как видно из рис. 3.19, при больших энер-
    гиях фотонов показатель поглощения достигает весьма высоких значений – по- рядка 10 8
    м
    –1
    . В этих условиях весь световой поток поглощается в очень тонком поверхностном слое полупроводника толщиной менее одного микрометра.
    В полупроводниках с непрямой структурой зон край собственного поглоще- ния характеризуется более пологой зависимостью от энергии фотонов, поскольку определяется непрямыми оптическими переходами (Ge и Si на рис. 3.19). В этом случае выполнение закона сохранения импульса обеспечивается благодаря уча- стию фононов, причем при низких температурах межзонные переходы происхо- дят лишь путем испускания квантов тепловой энергии. Как отмечалось ранее, не- прямые оптические переходы в сравнении с прямыми отличаются существенно меньшей интенсивностью, так как для их реализации необходимо участие не двух, а трех «частиц» – электрона, фотона и фонона. Поэтому в непрямозонных материалах с увеличением энергии фотонов вблизи порога поглощения сначала проявляется область относительно небольших значений α, а затем наблюдается увеличение крутизны спектра в связи с вовлечением в процесс прямых оптиче- ских переходов электронов из валентной зоны в более высоко расположенный ми- нимум зоны проводимости.
    По краю собственного поглощения можно определить ширину запрещенной зоны полупроводника, эВ:
    ∆Э = ℎν
    пор
    = ℎ
    𝑐
    λ
    пор
    =
    1,24
    λ
    пор
    ,
    (3.54) где ν
    пор и
    λ
    пор
    – пороговые по отношению к межзонным переходам значения ча- стоты и длины волны падающего монохроматического излучения соответ- ственно; 𝑐 – скорость света в вакууме.
    Для точного определения ширины запрещенной зоны по оптическим спек- трам необходимо учитывать конкурирующие процессы поглощения. Этим обу- словлена довольно сложная процедура вычислений.
    Ширина запрещенной зоны зависит от температуры. У подавляющего боль- шинства полупроводников ∆Э при нагревании уменьшается. Следствием темпе- ратурного изменения ширины запрещенной зоны является смещение края соб- ственного поглощения, как показано на рис. 3.19.

    Экситонное поглощение
    Под действием света в полупроводнике могут возникать неравновесные двухчастичные образования, состоящие из электрона и дырки, взаимосвязанных собственными электростатическими полями. Такие возбужденные состояния в полупроводнике получили название экситонов. Экситон можно рассматривать как квазичастицу, подобную атому водорода, с той лишь принципиальной разни- цей, что кулоновское притяжение между положительным и отрицательным заря- дами осуществляется в среде с достаточно высокой диэлектрической проницае- мостью. Поляризация среды приводит к существенному ослаблению кулонов- ского взаимодействия. Поэтому радиус экситона оказывается достаточно боль- шим и охватывает много межатомных расстояний, а его энергия ионизации (энер- гия разрыва пары) весьма незначительна и по порядку величины близка к 10 мэВ.
    Экситон может свободно перемещаться по кристаллу, однако, являясь в целом нейтральным образованием, он не принимает участия в создании электрического тока.
    Движение центра массы экситона определяет его кинетическую энергию.
    Внутренняя энергия экситона, обусловленная кулоновским взаимодействием электрона и дырки, как и в случае атома водорода может принимать ряд дискрет- ных значений. Непрерывному спектру энергии соответствует ионизованное со- стояние экситона.
    Минимальная энергия, необходимая для образования экситона, называется экситонной шириной запрещенной зоны ∆Э
    𝑒𝑥
    . Ее значение несколько меньше ре- альной ширины запрещенной зоны полупроводника ∆Э, поскольку последняя вы- ражает энергию, требуемую для создания разделенной электронно-дырочной пары. Будучи неравновесной квазичастицей, экситон может исчезнуть, например, в результате термической ионизации, сопровождаемой рождением пары носите- лей заряда, или в результате рекомбинации. Последняя может происходить как с испусканием фотона, так и безызлучательным путем с отдачей энергии кристал- лической решетке в виде теплоты.
    Экситоны не образуются в полупроводниках с большой концентрацией но- сителей заряда, так как в достаточно проводящей среде экранируется кулоновское взаимодействие между электронами и дырками.
    Экситонные эффекты существенно влияют на форму края собственного по- глощения не только при низких, но даже при комнатной температурах. В спектре поглощения полупроводника вблизи пороговой энергии фотонов следует ожидать
    появления серии узких пиков, соответствующих переходам в связанное состояние экситона. Экситонные переходы в GaAs обычно дают только один пик, а осталь- ные линии дискретного спектра сливаются с краем собственного поглощения. Но даже в области непрерывного спектра показатель поглощения α оказывается су- щественно выше тех значений, которые рассчитаны без учета экситонов. При комнатной температуре экситонный пик полностью стирается (см. рис. 3.19), по- скольку энергия теплового воздействия близка к энергии ионизации экситона.
    Поглощение света носителями заряда
    Этот механизм поглощения обусловлен переходами электронов и дырок с одного уровня на другой под влиянием квантов света внутри энергетических зон
    (соответственно, зоны проводимости и валентной зоны).
    Под действием электрического поля световой волны носители заряда совер- шают колебательное движение синхронно с полем. Ускоряясь полем на длине свободного пробега, электроны при столкновениях с узлами решетки отдают накопленную кинетическую энергию. В результате энергия световой волны пре- вращается в тепловую энергию кристалла. Такой вид оптического поглощения за- висит от механизма рассеяния носителей заряда и существенен тогда, когда время свободного пробега электронов (или дырок) намного меньше периода электро- магнитных колебаний. В противном случае носитель заряда возвращает электро- магнитной волне накопленную энергию. Поэтому интенсивность поглощения растет с увеличением длины волны падающего света.
    Спектр поглощения, обусловленный участием свободных носителей заряда, имеет непрерывный характер и может быть аппроксимирован степенной функ- цией вида α

    𝑛λ
    𝑞
    , где 𝑛 – концентрация носителей заряда, а показатель степени
    𝑞 > 1 и зависит от механизма рассеяния носителей заряда. Оптическая прозрач- ность полупроводника в области длин волн, лежащей за краем собственного по- глощения, проявляется лишь в образцах, в достаточной степени очищенных от примесей, когда поглощение света носителями заряда становится незаметным на фоне собственного поглощения. При фиксированной λ показатель поглощения тем больше, чем меньше удельное сопротивление материала.
    Примесное оптическое поглощение
    Это поглощение обусловлено переходами носителей заряда с локализован- ных электронных состояний в одну из разрешенных зон или в другое локализо-
    ванное состояние. Среди этих процессов, в первую очередь, следует выделить фо- тоионизацию примесных центров. При фотоионизации энергия поглощаемых квантов излучения расходуется либо на переход электронов с донорных уровней в зону проводимости, либо на заброс дырок с уровней акцепторов в валентную зону (см. рис. 3.18). И в том и в другом случае примесные атомы до взаимодей- ствия с фотоном находятся в нейтральном состоянии. Фотоионизация примесей сопровождается генерацией неравновесных носителей заряда какого-либо одного знака.
    Ввиду того что энергия ионизации доноров и акцепторов обычно менее
    0,1 эВ, оптическое поглощение с их участием смещено от края собственного по- глощения в далекую ИК-область (λ = 10…200 мкм) и экспериментально может наблюдаться при низких температурах, когда происходит «вымораживание» но- сителей заряда на уровни электрически активных примесей.
    Показатель поглощения с участием примесей намного меньше показателя собственного поглощения, так как плотность примесных состояний гораздо меньше плотности состояний в разрешенных зонах.
    Если оптические переходы происходят между валентной зоной и ионизиро- ванным мелким донором или между ионизированным мелким акцептором и зоной проводимости, то энергия поглощаемых квантов света близка к ширине запре- щенной зоны (см. рис. 3.18). Такие процессы получили название фотонейтрализа- ции, поскольку результатом их является превращение примесных ионов в нейтральные атомы. Спектры фотонейтрализации обычно сливаются со спектром собственного поглощения и могут проявляться лишь в виде дополнительной сту- пеньки на краю основного поглощения.
    Поглощение света кристаллической решеткой
    Этот процесс происходит в результате взаимодействия электромагнитного поля с движущимися (колеблющимися) зарядами узлов кристаллической ре- шетки. Решеточное поглощение увеличивает колебательную энергию атомов.
    Иными словами, поглощение фотона приводит к рождению фононов. Оно прояв- ляется в далекой инфракрасной области спектра и накладывается на примесное поглощение и поглощение носителями заряда.
    Наиболее сильное поглощение решеткой наблюдается в полупроводниковых соединениях с достаточно большой долей ионной связи. Поперечные противофаз- ные смещения соседних атомов в этом случае приводят к образованию электри-
    ческих диполей, с которыми и взаимодействует поле световой волны, причем вза- имодействие оказывается наиболее сильным, если частота излучения совпадает с частотой колебаний диполя. В ковалентных полупроводниках (Si, Ge) диполи не образуются, поэтому решеточное поглощение оказывается слабым.
    Роль различных механизмов в формировании спектра поглощения полупро- водника схематично показана на рис. 3.20.
    Рисунок 3.20 – Зависимость показателя поглощения от длины волны падающего излучения:
    1 – собственное поглощение; 2 – экситонное поглощение; 3 – поглощение света носителями
    заряда; 4 – примесное поглощение
    Показатель поглощения α круто падает с увеличением длины волны λ за длинноволновым порогом собственного поглощения. Значение α в минимуме по- глощения вблизи края основной полосы определяется концентрацией носителей заряда 𝑛, т. е. зависит от концентрации примеси и от температуры. Тип и концен- трация примесей и дефектов структуры обусловливают величину и спектральное положение максимумов примесного поглощения.
    Из всех рассмотренных механизмов оптического поглощения лишь соб- ственное и примесное поглощения сопровождаются генерацией добавочных но- сителей заряда. За счет оптической генерации избыточной концентрации носите- лей заряда должны изменяться оптические свойства полупроводника при его освещении. Поэтому два выделенных механизма поглощения называются фото- активными.
    Спектральная область между собственным и решеточным поглощениями у большинства полупроводников с малой концентрацией примесей и структурных дефектов характеризуется относительно высокой прозрачностью, что позволяет использовать их в качестве оптических окон и светофильтров.

    Фотопроводимость
    Изменение электрической проводимости или удельного сопротивления ве- щества под воздействием электромагнитного излучения называют фотопроводи-
    мостью (фоторезистивным эффектом). При фотопроводимости первичным явля- ется процесс поглощения фотонов. Если нет поглощения, то нет и фотопроводи- мости. Однако обратное утверждение несправедливо, так как не любое, а только фотоактивное поглощение света вызывает изменение удельного сопротивления.
    Фотопроводимость ∆γ равна разности проводимостей полупроводника на свету
    γ
    с и в темноте
    γ
    т
    :
    ∆γ = γ
    с
    − γ
    т
    = 𝑒∆𝑛μ
    𝑛
    + 𝑒∆𝑝μ
    𝑝
    ,
    (3.55) где ∆𝑛 и ∆𝑝 – концентрации неравновесных носителей заряда, возникших вслед- ствие оптической генерации.
    Если размер полупроводника 𝑑 в направлении распространения света удо- влетворяет условию 𝑑 ≪ 1/α, то скорость оптической генерации носителей за- ряда 𝑔
    0
    можно считать практически однородной во всем объеме образца. Значе- ние 𝑔
    0
    будет линейно возрастать с увеличением интенсивности падающего излу- чения:
    𝑔
    0
    = η
    0
    α𝐼
    ф
    ,
    (3.56) где η
    0
    – квантовый выход внутреннего фотоэффекта;
    𝐼
    ф
    – плотность потока фото- нов, т. е. число квантов излучения, падающих на единицу поверхности в единицу времени, 𝐼
    ф
    = 𝐼 ℎν

    Квантовым выходом внутреннего фотоэффекта называется отношение числа неравновесных носителей заряда (или разноименно заряженных пар) к числу поглощенных фотонов. В фотоэлектрически активной области электромаг- нитного спектра квантовый выход чаще всего равен единице, т. е. каждый погло- щенный фотон создает при возбуждении решетки одну пару носителей заряда.
    Экспериментально это подтверждается, например, для германия, в котором каж- дый фотон с длиной волны от 1 до 1,8 мкм образует одну пару электрон – дырка.
    Релаксация фотопроводимости
    Изменение электрических свойств полупроводников под влиянием электро- магнитного излучения носит временный характер. После прекращения облучения проводимость более или менее быстро возвращается к тому значению, которое она имела до облучения. У одних полупроводников это длится менее одной мик- росекунды, у других измеряется минутами и даже часами. Знание инерционности
    фотопроводимости различных полупроводниковых веществ важно при разра- ботке, например, фоторезисторов, к которым предъявляются высокие требования в отношении их быстродействия.
    Рассмотрим процессы, происходящие в полупроводнике при воздействии на него прямоугольного импульса света (рис. 3.21).
    Рисунок 3.21 – Релаксация фотопроводимости при возбуждении полупроводника
    прямоугольным импульсом света
    Убыль или накопление неравновесных носителей заряда определяется разно- стью скоростей генерации и рекомбинации носителей d(∆𝑛) d𝑡

    = 𝑔
    0
    − ∆𝑛 τ
    ⁄ ,
    (3.57) где τ – время жизни неравновесных носителей заряда.
    Интегрируя (3.54) с использованием начального условия ∆𝑛 = 0 при 𝑡 = 0, найдем закон нарастания избыточной концентрации носителей заряда при вклю- чении освещения:
    ∆𝑛 = ∆𝑛
    ст
    [1 − exp(− 𝑡 τ
    ⁄ )],
    (3.58) где ∆𝑛
    ст
    = τ𝑔
    0
    По такому же закону происходит и нарастание фотопроводимости:
    ∆γ = ∆γ
    ст
    [1 − exp(− 𝑡 τ
    ⁄ )].
    (3.59)
    При отключении света изменение проводимости определяется только скоро- стью рекомбинации. Решением кинетического уравнения является выражение
    (3.47), из которого следует, что
    ∆γ = ∆γ
    ст exp(− 𝑡 τ
    ⁄ ).
    Таким образом, крутизна фронтов нарастания и спада фотопроводимости находится в тесной взаимосвязи с временем жизни неравновесных носителей за- ряда.

    Зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения
    При воздействии на полупроводник светового пучка неизменной интенсив- ности в нем по истечении некоторого времени устанавливается стационарное зна- чение избыточной концентрации носителей заряда и фотопроводимости. Из урав- нений (3.56) и (3.58) для области собственного поглощения в случае равномерной оптической генерации получим:
    ∆𝑛 = ∆𝑝 = τη
    0
    α𝐼
    ф
    ;
    (3.60)
    ∆γ = 𝑒τη
    0
    α𝐼
    ф

    𝑛
    + μ
    𝑝
    ).
    Если поглощение света происходит неоднородно, то важную роль начинают играть процессы диффузии неравновесных носителей заряда от поверхности в объем полупроводника. Такая ситуация наблюдается, например, при сильном по- глощении в достаточно толстых образцах. В этом случае изменение электриче- ских свойств фоторезистора в целом можно характеризовать плотностью потока фотонов 𝐼
    ф или суммарной фотопроводимостью
    ∆γ, как избыточной над темно- вой.
    Независимо от характера поглощения (сильного или слабого) фотопроводи- мость определяется, в первую очередь, временем жизни неравновесных носите- лей заряда τ и плотностью потока излучения 𝐼
    ф
    . Чем больше время жизни τ, тем меньше скорость рекомбинации и больше фотопроводимость. Отсюда следует, что фоточувствительность и быстродействие полупроводниковых приемников из- лучения связаны между собой через параметр τ: чем больше фоточувствитель- ность, тем ниже быстродействие, и наоборот.
    При слабых световых потоках время жизни τ можно считать величиной по- стоянной, не зависящей от уровня возбуждения (случай линейной рекомбинации).
    Поэтому зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения носит ли- нейный характер. С увеличением интенсивности света часть ловушек захвата начнет превращаться в рекомбинационные центры, что должно привести к увели- чению скорости рекомбинации и уменьшению τ (см. разд. 3.3). При этом наруша- ется линейная зависимость между фотопроводимостью ∆γ и интенсивностью об- лучения 𝐼 (рис. 3.22).

    Рисунок 3.22 – Зависимость фотопроводимости полупроводника
    от интенсивности облучения
    Спектральная зависимость фотопроводимости
    Она соответствует спектрам оптического поглощения полупроводника
    (рис. 3.23).
    Рисунок 3.23 – Спектральная зависимость фотопроводимости полупроводника:
    С – собственная; П – примесная
    Примесному поглощению в длинноволновой части спектра отвечает примес- ная фотопроводимость (П). По обе стороны от максимума П фотопроводимость может быть равна нулю. Отсутствие фотопроводимости ∆γ в области больших длин волн λ отражает тот факт, что энергии фотонов недостаточно для ионизации примесных атомов. Спад примесной фотопроводимости со стороны более корот- ких длин волн обусловлен избирательным характером примесного оптического поглощения (см. кривая 4 на рис. 3.20). Положение границы собственной фото- проводимости (С) соответствует границе собственного поглощения λ
    пор
    . Однако с увеличением энергии фотонов спектральная кривая внутреннего фотоэффекта проходит через максимум и спадает в области малых длин волн несмотря на силь- ное поглощение света. Этот спад объясняется тем, что при больших энергиях фо- тонов поглощение происходит в тонком поверхностном слое, где образуется ос- новное число неравновесных носителей заряда. Скорость поверхностной реком- бинации существенно больше, чем в объеме полупроводника (см. разд. 3.3). По- этому возбужденные светом носители заряда рекомбинируют у поверхности раньше, чем успевают проникнуть в объем полупроводника. С уменьшением λ
    уменьшается глубина проникновения света и усиливается роль поверхностной ре- комбинации. Чем больше скорость поверхностной рекомбинации, тем острее спектральный максимум собственной фотопроводимости.
    В механизме собственной фотопроводимости примесные атомы также могут играть существенную роль, поскольку от природы и концентрации примесей за- висит время жизни неравновесных носителей заряда, которое определяет фото- чувствительность и скорость фотоответа. Важен не только донорный или акцеп- торный характер примесных атомов, но и принадлежность их к центрам рекомби- нации или ловушкам захвата. Введением специальных примесей, так называемых
    центров сенсибилизации, можно существенно усилить собственную фотопрово- димость. Такие примеси должны легко захватывать неосновные носители заряда и гораздо труднее – основные. В результате резко возрастает время жизни основ- ных носителей заряда, что способствует их накоплению при фотовозбуждении.
    Положение спектрального максимума собственной фотопроводимости опре- деляется шириной запрещенной зоны полупроводника. Для изготовления соб- ственных фоторезисторов используют халькогениды элементов II и IV групп Пе- риодической системы элементов Д. И. Менделеева. Среди них следует выделить сульфид CdS и селенид CdSe кадмия (чувствительны к видимому излучению), сульфид свинца PbS и твердые растворы Pb
    1–x
    Sn
    x
    Te, Hg
    1–x
    Cd
    x
    Te (область спек- тральной чувствительности от 1 до 15 мкм). Высокой чувствительностью в ИК- области спектра обладают также узкозонные полупроводники A
    III
    B
    V
    – арсенид
    InAs и антимонид InSb индия.


    написать администратору сайта