Главная страница
Навигация по странице:

  • Лабораторная работа № 2 Тема

  • 1 Краткие теоретические сведения о параметрах контактов металл-полупроводник и р- n -перехода. Основные расчетные соотношения

  • 2 Расчётное задание. Вариант№2.

  • 1.Рассчитать контактную разность потенциалов на p - n -переходе.

  • 2.Рассчитать полную ширину d запирающего (обеднённого зарядами) слоя p - n -перехода, а также ширину частей этого слоя в р- и n -областях перехода.

  • 3. Рассчитать и построить распределение напряжённости электрического поля в запирающем слое p - n -перехода вдоль оси Х, направленной слева на право от области р к области

  • 4. Рассчитать и построить распределение потенциала электрического поля в запирающем слое p - n -перехода вдоль оси Х, направленной слева на право от области р к области

  • 5.Рассчитать обратный ток насыщения I

  • 6.Рассчитать и построить зависимости барьерной и диффузионной ёмкостей p - n -перехода от значения приложенного к переходу напряжения.

  • Расчёт параметров и характеристик идеального (резкого) pnперехода


    Скачать 1.15 Mb.
    НазваниеРасчёт параметров и характеристик идеального (резкого) pnперехода
    Дата05.06.2019
    Размер1.15 Mb.
    Формат файлаdocx
    Имя файлаProtectsave2.docx
    ТипЛабораторная работа
    #80394

































    Лабораторная работа № 2
    Тема: Расчёт параметров и характеристик идеального (резкого) p-n-перехода
    Цель работы: освоить методику расчёта важнейших параметров и характеристик идеального p-n-перехода и усвоить их взаимосвязь
    1 Краткие теоретические сведения о параметрах контактов металл-полупроводник и р-n-перехода. Основные расчетные соотношения
    Контактная разность потенциалов контакта металл полупроводник:
    , (2.1)
    где – термодинамическая работа выхода электронов из полупроводника, – термодинамическая работа выхода электронов из металла (рисунок 2.1).

    Потенциал (высота) барьера Шоттки:
    , (2.2)

    где – сродство к электрону, эВ.

    Ширина области пространственного заряда (ОПЗ) в полупроводнике (рисунок 2.1, б):
    1 (2.3)

    где – диэлектрическая проницаемость полупроводника; еь электрическая постоянная; V – величина приложенного к контакту напряжения смещения; N – концентрация примеси в полупроводнике.

    2

    Рисунок 2.1 – Энергетические диаграммы p-n перехода: а) до их приведения в контакт; б) в равновесном состоянии
    Напряженность электрического поля в ОПЗ полупроводника:
    1 (2.4)

    Уравнение ВАХ контакта металл-полупроводник (теория термоэлектронной эмиссии-диффузии):



    (2.5)
    где – диффузионная составляющая скорости носителей qNc заряда на границе раздела структуры металл - полупроводник (– эффективная постоянная Ричардсона; – скорость дрейфа носителей заряда в ОПЗ; – максимальное значение напряженности электрического поля в полупроводнике (при V = 0). Если , то справедлива теория термоэлектронной эмиссии (теория Бете) и выражение для плотности тока преобразуется к виду:

    (2.6)
    В том случае, когда , определяющим является процесс диффузии (теория Шоттки) и плотность тока вычисляется по формуле:
    (2.7)
    Контактная разность потенциалов р-n-перехода:
    (2.8)
    где – термодинамическая работа выхода электронов из полупроводника p-типа проводимости; – термодинамическая работа выхода электронов из полупроводника n-типа проводимости (рис.5.2,а); Na, Nd– концентрация акцепторов
    и доноров соответственно.
    Максимальная величина напряженности электрического поля Еmах в р-n-переходе:

    (2.9)
    где Wp и Wn– толщина обедненных областей в р- и n-областях р-n-перехода, определяемая соотношениями
    (2.10)
    Толщина слоя объемного заряда для резкого р-n-перехода W, равная W= Wp+ Wn:
    (2.11)
    Толщина слоя объемного заряда для плавного р-n-перехода:

    (2.12)
    где а – градиент концентрации примесей.

    Плотность тока насыщения (обратного тока) р-n-перехода:
    (2.13)
    где и – равновесная концентрации неосновных носителей заряда.


    Рисунок 2.2 – Энергетические диаграммы полупроводников p- и n- типа проводимости: а) до приведения их в контакт; б) p-n-переход в равновесном состоянии
    Уравнение ВАХ p-n-перехода:
    , (2.14)

    где j– плотность тока, протекающего через р-n-переход при приложении к нему внешнего напряжения смешения V.

    Величина удельной барьерной емкости резкого р-n-перехода:
    (2.15)
    где Nв– концентрация примеси в высокоомной области р-n-перехода.

    Величина удельной барьерной емкости плавного р-n-перехода:
    (2.16)
    Дифференциальное сопротивление р - п-перехода:
    (2.17)
    где и – величины силы тока при прямом и обратном смешениях р-n-перехода соответственно.

    Напряжение пробоя резкого несимметричного р-n-перехода:
    (2.18)
    Напряжение пробоя линейно-плавного р-n-перехода:
    (2.19)

    Барьерная емкость p-n перехода:

    , (2.20)
    где S – площадь перехода.

    Диффузионная длина носителей заряда Ln,p выражается формулой
    , (2.21)
    где Dn,p – коэффициенты диффузии носителей; τn,p – время жизни носителей.

    Соотношения Энштейна:
    , (2.22)

    (2.23)
    Если , , обратный ток необходимо вычислить по формуле:
    . (2.24)
    2 Расчётное задание.

    Вариант№2.


    Наименования параметров

    Значения параметров

    Значение параметров в системе СИ

    Концентрация доноров

    Nд, см-3

    1,81016

    1,81022

    Концентрация акцепторов

    Nа, см-3

    1.51019

    1,51025

    Собственная конц. носителей заряда ni, см-3

    5108

    51014

    Относительная диэлектрическая проницаемость п/п ε

    10

    10


    Площадь перехода S, мм2

    0.7

    0.710-6

    Подвижность электронов μn , м2/(В∙с)

    0,1

    0,1

    Подвижность дырок μр ,

    м2/(В∙с)

    0,07

    0,07

    Время жизни неравновесных носителей заряда - электронов τn, мкс

    20

    2010-6

    Время жизни неравновесных носителей заряда – дырок τр, мкс

    45

    4510-6

    Прямое внешнее напряжение на переходе UB, В

    0,7

    0,7



    1.Рассчитать контактную разность потенциалов на p-n-переходе.

    Чтобы найти контактную разность потенциалов, воспользуемся формулой (2.8):



    Решение:


    Ответ:

    2.Рассчитать полную ширину d запирающего (обеднённого зарядами) слоя p-n-перехода, а также ширину частей этого слоя в р- и n-областях перехода.

    Решение:

    Чтобы вычислить ширину частей этого слоя в р- и n-областях перехода, можно воспользоваться формулой (2.10).


    ,


    Чтобы вычислить ширину p-n-перехода, можно воспользоваться формулой (2.11).


    Ответ.;
    3. Рассчитать и построить распределение напряжённости электрического поля в запирающем слое p-n-перехода вдоль оси Х, направленной слева на право от области р к области n перехода. Определить максимальное значение напряжённости электрического поля в переходе.

    Решение:

    Чтобы определить максимальное значение напряжённости электрического поля в переходе, воспользуемся формулой (2.9):

    (В/м).

    Чтобы рассчитать и построить распределение напряжённости электрического поля в запирающем слое p-n-перехода вдоль оси Х, направленной слева на право от области р к области n перехода, воспользуемся расчетными данными из 2 задания Eet=Ee=-

    -Xp =

    Xn=

    Emax=(В/м)






    Ответ:

    4. Рассчитать и построить распределение потенциала электрического поля в запирающем слое p-n-перехода вдоль оси Х, направленной слева на право от области р к области n перехода. Принять значение потенциала в р-области вдали от перехода равным φр = 0.

    Решение:


    Из условия дано φр = 0, следовательно, φk= φn.

    Зная φn выражения принимают следующий вид:







    5.Рассчитать обратный ток насыщения I0 через p-n-переход. На основании полученного значения I0 рассчитать и построить вольт-амперную характеристику идеального p-n-перехода для значений напряжения на переходе, лежащих в диапазоне: -10 В ≤ U ≤ 2 В.

    Решение:

    Воспользуемся формулой :

    ,

    Примем концентрации основных носителей заряда:

    Концентрации неосновных носителей заряда выразим из закона действующих масс (1):


    Чтобы найти Ln,Lp воспользуемся формулой 2.21:

    ;


    Чтобы найти Dn,Dp воспользуемся соотношением:





    Уравнение ВАХ p-n-перехода:
    .

    Пример расчётов:
    при :



    при :









    Ответ: I0= (А).
    6.Рассчитать и построить зависимости барьерной и диффузионной ёмкостей p-n-перехода от значения приложенного к переходу напряжения.
    Для расчета диффузионной емкость используем формулу:

    ,

    При U=0.7(В):



    Для барьерной ёмкости следует использовать напряжения из диапазона: -10 В ≤ U ≤ (φк – 0,1) В.


    Рисунок 4 – Вольт-фарадная характеристика перехода
    Расчёт и построение зависимости диффузионной ёмкости p-n-перехода от значения приложенного к переходу напряжения производиться по полной формуле (2.8) [3]:




    (2.8)


    где

    .

    (2.9)


    Тогда при значении напряжения U=1 В значения , равны:

















    Из формулы (2.8) [3]:


    ,

    (3.2)


    Из формулы (3.2) выводим следующее [3]:


    ,

    (3.3)


    где



    (3.4)


    Тогда при значении напряжения U=0.7 В значения , равны:
















    Однако, если в p-n-переходе ток инжекции электронов и ток инжекции дырок различаются на два и более порядков, можно использовать упрощенную формулу диффузионной емкости. При этом необходимо использовать значение тока, величина которого больше. Меньшим же значением можно пренебречь. В данном случае ток инжекции дырок больше, поэтому упрощенная формула имеет вид [3]:




    (3.5)


    Для диффузионной ёмкости следует использовать напряжения из диапазона: 0 B ≤ U ≤ U*, где U* - прямое напряжение на p-n-переходе, соответствующее току через переход I = 1 А.



    Рисунок 5 - Зависимость диффузионной ёмкости p-n-перехода от значения приложенного к переходу напряжения
    7. Для вычисления статического сопротивления необходимо рассчитать значения тока, используя заданное значение сопротивления c помощью формулы (2.6):

    Вычисление статическое сопротивление p-n-перехода для значения прямого внешнего напряжения на переходе UВ производиться по формуле [1]:


    ,

    (3.6)



    Вычисление дифференциального сопротивления p-n-перехода производиться по формуле [1]:


    ,

    (3.7)



    Ответ: rc = rd =

    ВЫВОД:

    При выполнении работы была освоена методика расчёта энергетических параметров контактов металлов и полупроводников, таких как контактная разность потенциалов, обратный ток насыщения и его плотность, диффузионная и барьерную ёмкость p-n перехода.

    Также в расчетах был обоснован выбор выражения для расчета вольтамперной характеристики p-n перехода



    30

    Лабораторная работа № 2


    Окорочков А.И.


    ИСОиП (филиал) ДГТУ

    Кафедра РЭСиК


    Разраб.

    Провер. 3.3 Реализация задачи

    Н.контр.

    Утв.

    Лит

    Лист

    Изм

    Подпись

    Дата

    Лист


    Листов

    15

    ФОМЭ.030000.000 ЛР

    докум.




    написать администратору сайта