овтетаввыф. коллоид было предложено
Скачать 2.89 Mb.
|
ПОЛУЧЕНИЕ ДИСПЕРСНЫХ СИСТЕМОдин правильный ответКому из русских поэтов принадлежит строка: «все истины pacтворены в мицелле». A) К. Бальмонту; B) И. Северянину; C) В. Брюсову; D) А. Блоку. Каким методом получают микрогетерогенные системы? пептизацией конденсацией; диспергированием самопроизвольным диспергированием. Какое вещество является стабилизатором для гидрозоля Fe(OH)3? Сa(OH)2; NaOH; FePO4; KI. Основной причиной понижения механической прочности реальных твердых тел по сравнению с их теоретической прочностью является.... поверхность микротрещин; (это менее предпочтительно) внутренние микротрещины; микротрещины, широкие части которых выходят на поверхность тела, а тупики остаются внутри тела; микротрещины на основе дефектов кристаллической решетки. Работа диспергирования при получении дисперсных систем методом диспергирования равна работе деформации; работе образования новой поверхности; работе разрушения; сумме работ деформации и образования новой поверхности. Мицелла золя Сг(ОН)3, стабилизированного СгСl3, имеет вид:{mСг(ОН)3 nСг3+ 3(n-x)Сl-}3хСl-. Как называется элемент мицеллы 3(n-x) Cl-? ядро; частица; потенциалопределяющий ион; диффузный слой; адсорбционный слой противоионов. Каков механизм пептизации путем поверхностной диссоциации? образование растворимых соединений на поверхности; ионный обмен; солюбилизация осадка мицеллами; действие структурно-механического фактора устойчивости. Причина адсорбционного понижения прочности (эффект Ребиндера) состоит в… уменьшении энтропии; снижении энергии когезии; уменьшении свободной поверхностной энергии; уменьшении внутренней энергии. Укажите правильную формулу мицеллы золя Sb2S3, стабилизированного Na2S. {mSb2S3 nS2- (n-x)Na+}xNa+; {mSb2S3 nS2- 2(n-x)Na+}2x Na+; {mSb2S3 2nS2- (n-x)Na+}x Na+; {mSb2S3 2nNa+ (n-x) S2-}xS2-. Какая система является исходной для получения коллоидной системы методом конденсации? гомогенная; осадок в жидкости; гетерогенная. Какое соединение образует потенциалопределяющие ионы с противоионами? высокоплавкое; растворимое; низкоплавкое; нерастворимое. Назовите причину растворения осадка при адсорбционной пептизации. улучшение качества растворителя; солюбилизация осадка мицеллами; образование двойного электрического слоя; ионный обмен. Какова причина наличия максимума на кривой зависимости размера частиц от концентрации сливаемых растворов при получении коллоидных систем методом конденсации? дезагрегация частиц; уменьшение скорости роста кристаллов; увеличение скорости нуклеации; повышение вязкости растворов. К коллоидным системам, образующимся самопроизвольно без стабилизатора, относят… мицеллярные растворы ПАВ; золи благородных металлов; золь оксида титана; золь оксида кремния. Какие ионы являются потенциалопределяющими для мицелл золя AlРО4, стабилизированного Na2HPO4? Na+; HPO42-; Al3+. Укажите причину невозможности получения коллоидных частиц методом диспергирования без стабилизатора. низкая мощность дезинтегратора; рекомбинация мелких частиц; низкое трение между частицами. Какие ионы являются противоионами для мицелл золя диоксида кремния? SiO32-; ОН-; Н+. Как изменится размер коллоидных частиц при получении их методом конденсации? 10 нм - 80 нм; 30 нм - 300 нм; 10 мкм - 80 мкм; 0,8 нм - 50 нм. Каково соотношение работ гетерогенного и гомогенного образования критического зародыша? Wкр.гом = Wкр.гет; Wкр.гом =f(θ) Wкр.гет; Wкр.гет = f(θ) Wкр.гом. При гомогенном зародышеобразовании размер критического зародыша равен.... ; ; ; . Какой заряд имеет коллоидная частица? одноименный с противоионами; одноименный с потенциалопределяющими ионами; электронейтральна. Причиной растворения осадка при получении коллоидных систем пептизацией путем промывания осадка является …………. улучшение качества растворителя; солюбилизацня осадка мицеллами; сжатие двойного электрического слоя; расширение двойного электрического слоя после удаления коагулирующих ионов. Как изменяется размер частиц в процессе пептизации? 0,5 нм – 50 нм; 120 нм – 12 нм; 300 нм - 50 нм; 1 мкм - 60 мкм; 0,1 мкм - 60 нм 400 мкм – 40 мкм; 10 нм - 100 нм; 20 мкм - 80 мкм; 50 нм – 0,5 нм. Чему равна «теоретическая» прочность идеального тела по уравнению Гриффитса? P0 = (σE / b)1/2; P0 = (σEl)1/2; P0 = (σ E / l)1/2; P0 = (σb/ E )1/2. При каком соотношении скорости образования зародыша и скорости их роста образуются связнодисперсные системы - гели? Vобр. < Vроста; Vобр. = Vроста; Vобр. > Vростапри низких концентрациях реагентов; Vобр. > Vроста при высоких концентрациях реагентов. Какой заряд имеет частица золя, образовавшегося при добавлении концентрированного раствора Sr(NO3) к разбавленному раствору NaF? положительный; отрицательный; электронейтральна. Какой заряд имеет мицелла золя FePO4, полученного путем реакции обмена насыщенного раствора FeСl3 и разбавленного раствора Na2НPO4? положительный; отрицательный; электронейтральна. При каком соотношении скорости образования зародыша и скорости их роста образуются свободнодисперсные системы - золи? Vобр. < Vроста ; Vобр. > Vроста ; Vобр. = Vроста . |