МЭ Р1. Пробой pn перехода
Скачать 109.91 Kb.
|
МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РЕСПУБЛИКИ КАЗАХСТАН УНИВЕРСИТЕТ САТПАЕВ Институт Автоматики и Информационных технологий Кафедра Электроники, телекоммуникации и космических технологий РЕФЕРАТ Тема: Пробой p-n - перехода
Преподаватель: Ибекеев С.Е. Студент: Калкин Д. Специальность: Электроника и электротехника Алматы 2022 г Пробой p-n - перехода С увеличением обратного напряжения на p-n - переходе при достижении некоторого значения напряжения vпроб (напряжение пробоя) начинается резкое увеличение тока через диод при незначительном увеличении напряжения. Это явление называется электрическим пробоем p-n - перехода. Подобное увеличение тока обусловлено различными физическими механизмами, которые рассматриваются ниже. При данном приложенном напряжении к p-n - переходу напряженность электрического поля в области зависит от толщины p-n – перехода или от степени легирования p - и n – областей полупроводника. для p+ - n - перехода она имеет вид: Так как пробой начинается при достижении определенного (для каждых конкретных условий) значения напряженности электрического поля Eпроб, то чем больше d (меньше nd), тем при большем напряжении vпроб начинается пробой. очевидно, наибольшее vпроб имеет р—i—n -диод, так как nd в его базе наименьшая, а ширина области объемного заряда d наибольшая. Различаются следующие виды электрического пробоя p-n - перехода: лавинный пробой, туннельный пробой, тепловой пробой и поверхностный пробой. О типе пробоя можно судить по картине обратной ветви вольт-амперной характеристики. На рис.5 приведены картинки обратных ветвей вольтамперных характеристик для различных видов пробоев. Рис.1.5. вольт-амперная характеристика p-n - перехода при обратном смещении: а — лавинный пробой; б — туннельный пробой, в — тепловой пробой, г — влияние поверхностного канала при лавинном пробое. а)Лавинный пробой. Если ширина области объемного заряда p-n - перехода d ?l (длины свободного пробега носителей заряда), то неосновные носители заряда в электрическом поле обратносмещенного p-n - перехода могут набрать достаточную скорость для ионизации решетки с образованием пары электрон — дырка. Образовавшиеся носители заряда сами принимают участие в дальнейшей ионизации. Процесс нарастания тока носит лавинный характер. Скорость нарастания тока зависит от коэффициентов ударной ионизации электронов и дырок, т. е. от числа электронно-дырочных пар, образуемых носителем заряда на 1 см пути при данной напряженности электрического поля. Следует отметить, что при лавинном пробое с увеличением тока сопротивление p-n - перехода резко уменьшается, однако напряжение на p-n - переходе не может стать ниже значения напряжения пробоя, так как напряженность электрического поля при этом станет меньше, чем необходимо для ударной ионизации. поэтому возрастание тока при лавинном пробое происходит при незначительном увеличении напряжения на p-n - переходе (рис.1.5,а). б)Туннельный пробой. В p-n - переходах, ширина которых меньше длины свободного пробега носителей ( d<l ), носители не успевают за время пролета через область объемного заряда набрать энергию, достаточную для ионизации. В таких переходах имеет место туннельный пробой. Сущность туннельного эффекта заключается в том, что частица, имеющая кинетическую энергию, меньшую высоты потенциального барьера, может, при определенных условиях, преодолеть его без потери энергии, если с обеих сторон барьера имеются одинаковые энергетические уровни. Как известно из квантовой механики, вероятность туннельного проса
Протекание тока при туннельном механизме показано на рис.1.7. Электроны из валентной зоны p-области туннелируют через потенциальный барьер p-n - перехода на незанятые уровни в зоне проводимости n-области. На риС.1.7,а показан случай, когда напряжение таково, что дно зоны проводимости n-области опустилось немного ниже валентной зоны p-области. В более общемслучае (рис.1.7,б) ширину потенциального барьера, который необходимо преодолеть электрону из валентной зоны, можно записать (При V>> ) как а=d(Eg/qv) = (Eg/qe), где E=V/d — напряженность электрического поля в p-n - переходе. Так как ширина области объемного заряда p-n -перехода уменьшается с ростом концентрации примесей, а Е увеличивается (при постоянном V), то туннельный пробой наблюдается в p-n -переходах с сильно легированными р- и n-областями. картина туннельного Пробоя Приведена на риС.1.5,б. в)Тепловой пробой. Явление теплового пробоя связано с тем, что при прохождении обратного тока в p-n -переходе выделяется определенное количество тепла. Если не обеспечен отвод этого тепла, область p-n- перехода нагревается до такой степени, что возникает определённое количество электронно-дырочных пар под действием тепловой энергии решётки. Возникновение дополнительных свободных носителей приводит к росту обратного тока. С ростом тока температура p-n -перехода повышается, что приведет к увеличению концентрации носителей заряда и росту обратного тока. Это еще больше увеличит количество выделяемого тепла, а следовательно, концентрация увеличится еще больше и т. д. Такой процесс может привести к тепловому пробою. Если последовательно с диодом нет ограничивающего ток сопротивления, то результатом теплового пробоя может быть разрушение p-n -перехода.Условие устойчивой работы диода даётся следующим выражением:I0=Aехр (-Eg/kT) <kT2/VEgRT, где : A – некоторая постоянная V – приложенное напряжение RT – тепловое сопротивление диода Это условие хорошо выполняется для полупроводников с большим значением Еg (малое Iнас), например, в кремнии. В германиевых p-n -переходах ток насыщения значительно больше и при высоких температурах знак неравенства может измениться, т. е. произойдет тепловой пробой. Вследствие положительной обратной связи между увеличением температуры и обратного тока вольт-амперная характеристика при тепловом пробое имеет участок отрицательного дифференциального сопротивления (рис.1.5,в), т. е. с ростом тока напряжение на p-n -переходе уменьшается.Так как обратные токи p-n -переходов достаточно малы, то тепловой пробой обычно не наблюдается. В большинстве случаев он является следствием лавинного или туннельного пробоев, которые приводят к резкому увеличению обратного тока, а, следовательно, к повышению температуры p-n –перехода. г)Влияние состояния поверхности на обратный ток и пробой p-n -перехода. Вследствие различных дефектов на поверхности полупроводника там всегда имеются энергетические уровни, на которые захватываются носители заряда. Поэтому на поверхности всегда существует некоторый заряд. Наличие этого заряда приводит к уменьшению сопротивления движению неосновных носителей в поверхностной области p-n – перехода, т.е. в поверхностной области течёт больше тока по сравнению с объёмом. Это Приводит к нагреву этой области и, соответственно к термогенерации дополнительных носителей, в результате ещё больше увеличивает ток в поверхностной области. это в свою очередь может привести к тепловому пробою. В зависимости от типа поверхностного заряда, поверхностный пробой может быть и лавинным или туннельным. Признаком наличия утечки тока по поверхности p-n – перехода является линейный рост обратного тока с ростом обратного напряжения (рис.1.5,г), в то время как у идеального p-n – перехода этот ток не зависит от напряжения. |