Главная страница
Навигация по странице:

  • Пробой p-n перехода

  • Лекция 15. 1. Общая характеристика пробоя pn перехода


    Скачать 0.5 Mb.
    Название1. Общая характеристика пробоя pn перехода
    Дата02.01.2022
    Размер0.5 Mb.
    Формат файлаdoc
    Имя файлаЛекция 15.doc
    ТипЛекция
    #323094

    Лекция 15

    ПРОБОЙ p-n перехода

    1.Общая характеристика пробоя p-n перехода


    Обратное напряжение, приложенное к диоду, падает на выпрямляющем электрическом переходе. При больших обратных напряжениях происходит пробой электрического перехода.

    Пробой p-n перехода – это явление резкого уменьшения дифференциального сопротивления p-n перехода, сопровождающееся резким увеличением обратного тока, при достижении обратным напряжением критического для данного перехода значения.

    Пробой приводит к выходу p-n перехода из строя лишь в том случае, когда возникает чрезмерный разогрев перехода и происходят необратимые изменения его структуры. Если же мощность, выделяющаяся в p-n переходе, не превышает максимально допустимую, переход сохраняет работоспособность и после пробоя. Поэтому для некоторых типов диодов пробой является основным рабочим режимом.

    Напряжение, при котором наступает пробой перехода, зависит от типа p-n перехода и может иметь величину от единиц до сотен вольт.

    В зависимости от физических явлений, приводящих к пробою, различают тепловой, лавинный и полевой пробои. Два последних вида пробоя p-n перехода относятся к электрическому пробою. Резкий рост обратного тока p-n перехода в режиме электрического пробоя происходит за счет увеличения числа носителей заряда в переходе при достижении напряженностью поля в переходе некоторого критического значения. При тепловом пробое число носителей заряда в переходе возрастает за счет термической ионизации атомов.

    2.Тепловой пробой p-n перехода


    Тепловой пробой характерен для широких p-n переходов, у которых база слабо легирована примесями. Данный тип пробоя обусловлен разогревом p-n перехода при протекании через него обратного тока. В режиме постоянного тока мощность, выделяемая в p-n переходе, определяется соотношением

    .

    Отводимая от p-n перехода мощность в результате теплопроводности и дальнейшего рассеяния теплоты в окружающую среду пропорциональна перегреву p-n перехода (ТП-ТОКР) и обратно пропорциональна тепловому сопротивлению конструкции диода RТ:

    .

    Тепловое сопротивление диода RТ выражается в градусах на ватт и определяет перепад температуры, необходимый для отвода 1 Вт мощности от p-n перехода в окружающую среду. Тепловое сопротивление тем меньше, чем больше теплопроводность материала КТ , площадь ПТ и чем меньше толщина слоя Т, проводящего тепло:

    .

    Коэффициент теплопроводности КТ у германия равен 0,52Вт/(смС),
    т.е. примерно в 7 раз меньше, чем у меди, отличающейся хорошей теплопроводностью. У кремния теплопроводность лучше: КТ= 2,19 Вт/(смС).

    В установившемся режиме мощность, выделяющаяся на p-n переходе, и мощность, отводимая от него, должны быть равны:

    РВЫД = РОТВ.

    Если количество тепла, выделяемого на p-n переходе, превышает количество тепла, отводимого от p-n перехода, то температура перехода начинает расти. Соответственно растет обратный ток, увеличение которого определяется тепловой генерацией электронно-дырочных пар атомами полупроводников в областях, прилегающих к p-n переходу, на расстоянии длины диффузии, как указано на рис. 1. Это приводит к дальнейшему росту РВЫД и температуры перехода ТП; тепловой режим перехода теряет устойчивость, температура и ток перехода неограниченно растут, возникает тепловой пробой.
    Р
    ис. 1. Структура p-n перехода
    На рис. 1 обозначено:

    SLn – объем диффузии неосновных носителей – электронов в полупроводнике p-типа, где S – площадь полупроводника, прилегающая к p-n переходу, Ln – длина диффузии электронов – неосновных носителей заряда полупроводника
    p-типа;

    SLp – объем диффузии неосновных носителей заряда – дырок в полупроводнике n-типа, где Lp – длина диффузии дырок.

    Вид обратной ветви вольт-амперной характеристики (ВАХ) p-n перехода с тепловым пробоем представлен на рис. 2.




    Рис. 2. Обратная ветвь ВАХ p-n перехода с тепловым пробоем
    В точке А обратное напряжение на p-n переходе достигает значения напряжения теплового пробоя Uпроб1, при котором начинается быстрый рост Iобр. ВАХ p-n перехода с тепловым пробоем имеет участок АВ, на котором дифференциальное сопротивление отрицательно:

    rДИФ = dUобр/dIобр < 0,

    так как концентрация носителей заряда резко увеличивается и электрическое сопротивление перехода уменьшается относительно быстрее, чем растет ток перехода.

    Зависимость 1 рис. 2 приведена для температуры окружающей среды T= +20 С, тепловой пробой наступает при напряжении, равном Uпроб1. Если температура окружающей среды возрастет до значения T= +40 C, то обратная ветвь ВАХ p-n перехода принимает вид зависимости 2 рис.2. Известно, что с увеличением температуры тепловой ток возрастает экспоненциально (т.к. резко возрастает количество неосновных носителей заряда):

    I0 = BSexp[-Wз /kT],

    где – Т – температура;

    S – площадь p-n перехода;

    Wз – ширина запрещенной зоны полупроводника;

    k = 1,3810-23 Дж/С – постоянная Больцмана;

    В – коэффициент, зависящий от типа полупроводника и p-n перехода.

    Поэтому при T = T2 тепловой пробой наступает раньше – при меньшем напряжении пробоя, равном Uпроб2. Пробивное напряжение уменьшается, во-первых, в связи с увеличением выделяющейся мощности при тех же обратных напряжениях и, во-вторых, из-за ухудшения теплоотвода от p-n перехода. Это означает, что температурный коэффициент напряжения для теплового пробоя имеет отрицательное значение:

    ТКНТЕПЛ = Uпроб/Т  0,

    где Uпроб = Uпроб2Uпроб1 – изменение напряжения пробоя при изменении температуры на величину Т = Т2Т1 при фиксированном значении обратного тока.

    Тепловой пробой – необратимый пробой, поскольку может привести к плавлению полупроводникового материала. Так как пробивное напряжение при тепловом пробое зависит от обратного тока через p-n переход, то в диодах с большими обратными токами даже при комнатных температурах создаются условия для теплового пробоя и он наступает раньше, чем лавинный пробой. Это справедливо для германиевых полупроводниковых диодов и мощных транзисторов. И наоборот, в кремниевых диодах из-за значительно меньших обратных токов напряжение теплового пробоя получается настолько большим, что раньше наступает лавинный пробой. Однако это не означает, что в кремниевых диодах не может быть теплового пробоя. Он может происходить при высоких температурах окружающей среды. Кроме того, пробой может начаться как лавинный, а затем, по мере увеличения обратного тока, перейти в тепловой пробой.

    В связи с тем, что напряжение пробоя уменьшается с увеличением теплового сопротивления, следует обратить особое внимание на совершенство конструкции диода. Тепловой пробой наблюдается и тогда, когда имеет место плохой отвод тепла от корпуса полупроводникового прибора.

    3.Полевой пробой


    Полевой, или туннельный, пробой относится к электрическому виду пробоя и характерен для сравнительно узких p-n переходов (ширина p-n перехода в равновесном состоянии составляет сотые доли микрометра).

    Это обеспечивается в том случае, когда обе области p-n перехода имеют высокую степень легирования примесями. При этом длина свободного пробега электронов меньше ширины обратно-смещенного p-n перехода:

      lОБР.

    При напряженности электрического поля E = Uобр/lобр в p-n переходе, равной критическому значению EКР= (24)105 В/см, происходит полевой, или туннельный, пробой.

    При такой большой напряженности электрического поля у атома полупроводника происходит отрыв валентных электронов и число носителей заряда растет. С точки зрения энергетической (зонной) диаграммы основу полевого пробоя составляет туннельный эффект – явление «просачивания» электронов сквозь узкий энергетический барьер p-n перехода, т.е. переход электронов с занятых энергетических уровней валентной зоны полупроводника p-типа на свободные энергетические уровни зоны проводимости полупроводника n-типа. Эти переходы происходят без изменения энергии электрона, а на энергетической диаграмме, изображенной для этого случая на рис. 3, переходы происходят на одном энергетическом уровне, т.е. горизонтально.

    Вероятность туннельных переходов при напряженности электрического поля E = 105 В/см составляет один электрон в секунду, а при напряженности электрического поля E = 106 В/см – 1012 электронов в секунду. Поэтому при критическом значении напряженности электрического поля обратносмещенного p-n перехода количество туннельных переходов будет значительным, а это приводит к резкому увеличению обратного тока.





    Рис. 3. Энергетическая диаграмма p-n перехода при полевом пробое
    При дальнейшем увеличении обратного напряжения на p-n переходе
    Uобр> Uпроб рост обратного тока происходит по экспоненциальному закону. Это объясняется увеличением напряженности электрического поля и степени перекрытия валентной зоны полупроводника p-типа и зоны проводимости полупроводника n-типа.

    Обратная ветвь ВАХ p-n перехода для случая полевого пробоя представлена на рис. 4. Полевой пробой имеет место в p-n переходах с напряжением пробоя до 5 В.

    Зависимость 1 рис. 4 изображена для значения температуры окружающей среды T1 = +20 C. При увеличении температуры окружающей среды до значения T2 = +50 С ВАХ p-n перехода видоизменяется, и на рис. 4 это изменение нашло отражение в зависимости 2. При увеличении температуры обратный ток p-n перехода возрастает в связи с ростом концентрации неосновных носителей заряда по экспоненциальному закону. Такое изменение обратного тока наблюдается при регулировании обратного напряжения в диапазоне от нуля до напряжения пробоя.




    Рис. 4. Обратная ветвь ВАХ p-n перехода при полевом пробое
    С увеличением температуры напряжение пробоя уменьшается и становится равным Uпроб2 (зависимость 2 рис. 4). Это обусловлено тем, что при увеличении температуры возрастает амплитуда тепловых колебаний атомов полупроводника в узлах кристаллической решетки, энергия электронов также растет, величина контактной разности потенциалов p-n перехода К снижается, ширина p-n перехода lобр уменьшается, а напряженность электрического поля в p-n переходе Е увеличивается, критическое значение напряженности поля ЕКР достигается при меньшем значении Uобр, растет количество туннельных переходов и, следовательно, резко возрастает обратный ток. Следовательно, температурный коэффициент напряжения при полевом пробое имеет отрицательное значение:

    ТКНПОЛ = Uпроб/Т 0,

    где Uпроб = Uпроб2Uпроб1- изменение напряжения пробоя при изменении температуры на величину Т = Т2 – Т1 при фиксированном значении обратного тока.

    При полевом пробое пробивное напряжение оказывается обратно пропорциональным концентрации примесей в областях, прилегающих к p-n переходу, или прямо пропорционально удельному сопротивлению этих областей.

    Для кремниевых p-n переходов пробивное напряжение при полевом пробое определяется эмпирическим соотношением:

    Uпроб = 200n+73p;

    а для германиевых переходов:

    Uпроб = 190n+94p,

    где n и p – удельные сопротивления n- и p-областей, прилегающих к переходу, Омсм.

    Следовательно, чем сильнее легированы области p-n перехода, тем меньше удельное сопротивление этих областей и тем меньше пробивное напряжение при полевом пробое.

    4.Лавинный пробой


    Лавинный пробой относится к электрическому виду пробоя и проявляется в p-n переходах средней величины, то есть ширина p-n перехода достаточна большая. При увеличении значения обратного напряжения на p-n переходе напряженность электрического поля E = Uобр/lобр(В/см) растет. Когда напряженность электрического поля достигает критического значения
    EКР = (80120)кВ/см, то создаются условия для ударной ионизации нейтральных атомов полупроводника непосредственно в p-n переходе быстрыми) электронами или дырками, которые получили достаточное ускорение за счет действия напряженности электрического поля p-n перехода. Такие носители называются «горячими», так как их средняя энергия существенно превышает энергию теплового движения kT0. Механизм ударной ионизации нейтральных атомов
    p-n перехода иллюстрируется на рис. 5.





    Рис. 5. Механизм ударной ионизации
    В результате ударной ионизации генерируются новые пары носителей заряда, которые, в свою очередь, ускоряясь под действием напряженности электрического поля, вновь при столкновении с нейтральными атомами полупроводника образуют новые электронно-дырочные пары. Ионизацию нейтральных атомов совершают только те электроны и дырки, которые на длине свободного пробега электрона набирают за счет напряженности электрического поля энергию, достаточную для ионизации. Поэтому ширина p-n перехода должна быть достаточна большая, а именно много больше длины свободного пробега электрона :lобр .

    С ростом Uобрувеличивается ширина p-n перехода и напряженность электрического поля в нем, электроны разгоняются сильнее, резко возрастает число ионизаций, совершаемых каждым электроном, и ток p-n перехода лавинообразно растет.

    Напряжение лавинного пробоя определяется из соотношения

    Uпроб = АбВ,

    где б - удельное электрическое сопротивление базы диода;

    А, В - коэффициенты, зависящие от материала и типа электропроводности полупроводника, их значения указаны в таблице.



    Материал и тип перехода

    А

    В

    Германиевый переход, база p-типа

    52

    0,6

    Германиевый переход, база n-типа

    83

    0,6

    Кремниевый переход, база p- типа

    23

    0,75

    Кремниевый переход, база n- типа

    86

    0,65


    Так, например, для p-n перехода с базой n-типа

    ,

    где q – заряд электрона;

    n – подвижность электронов;

    nn – концентрация электронов - основных носителей заряда полупроводника n-типа.

    Чем меньше концентрация примесей в базе p-n перехода, тем выше ее удельное электрическое сопротивление, шире p-n переход, меньше в нем напряженность электрического поля и соответственно более высокое значение напряжения лавинного пробоя. Эмпирические коэффициенты А и В различны не только для p-n переходов из разных материалов, но и для переходов из одного и того же материала с разными типами электропроводности базы (p+-n и
    n+-p). Связано это различие в коэффициентах с тем, что подвижность электронов отличается от подвижности дырок в одном и том же материале.

    Обратная ветвь ВАХ p-n перехода с лавинным пробоем представлена на рис. 6.

    Лавинный пробой характерен для p-n переходов с напряжением пробоя более 7 В.

    Зависимость 1 рис. 6 соответствует температуре окружающей среды T1 = +20 С. С увеличением температуры окружающей среды лавиннный пробой наступает при большем напряжении (Uпроб2  Uпроб1). Это объясняется тем, что с ростом температуры увеличивается амплитуда колебаний атомов кристаллической решетки полупроводника и уменьшается длина свободного пробега носителей заряда , а значит, и энергия, которую носитель заряда может приобрести на длине свободного пробега в электрическом поле. Поэтому для получения энергии, необходимой для ударной ионизации нейтральных атомов, требуется большая напряженность электрического поля в p-n переходе, и, следовательно, напряжение лавинного пробоя возрастает.

    С другой стороны, при увеличении температуры уменьшается подвижность носителей заряда полупроводника, растет удельное электрическое сопротивление базы p-n перехода, а в соответствии с соотношением

    Uпробб

    напряжение лавинного пробоя также возрастает.

    На рис. 6 зависимость 2 изображена для температуры окружающей среды T2 = +50 С. Таким образом, температурный коэффициент напряжения при лавинном пробое имеет положительное значение:

    ТКНЛАВ = Uпроб/Т 0,

    где Uпроб = Uпроб2Uпроб1 - изменение напряжения пробоя при изменении температуры на величину Т при фиксированном значении обратного тока.




    Рис. 6. Обратная ветвь ВАХ p-n перехода при лавинном пробое


    написать администратору сайта