Главная страница
Навигация по странице:

  • Приборы и оборудование: х

  • Контрольные вопросы

  • Изучение диода. Изучение ВАХ полупроводникового диода EWB. Изучение вольтамперной характеристики полупроводникового диода в сред ewb


    Скачать 84.7 Kb.
    НазваниеИзучение вольтамперной характеристики полупроводникового диода в сред ewb
    АнкорИзучение диода
    Дата02.03.2021
    Размер84.7 Kb.
    Формат файлаdocx
    Имя файлаИзучение ВАХ полупроводникового диода EWB.docx
    ТипЛабораторная работа
    #181267

    Лабораторная работа
    Тема: Изучение вольтамперной характеристики полупроводникового диода в сред EWB

    Цели работы:

    1. Исследование зависимости тока диода от напряжения при прямом и обратном смещении p - n перехода.

    2. Построение и исследование вольтамперной характеристики (ВАХ) для полупроводникового диода.

    3. Измерение сопротивления диода при прямом и обратном смещении по вольтамперной характеристике.

    4. Анализ сопротивления диода (прямое и обратное смещение) на переменном и постоянном токе.

    5. Измерение напряжения изгиба вольтамперной характеристики.

    Приборы и оборудование: характериограф, мультиметр, осциллограф, диоды.
    Краткая теория.

    Полупроводниковым диодом называется структура из двух полупроводниковых слоев с проводимостями p (дырочной) и n (электронной) типа. Такая структура обладает выпрямляющими свойствами: она гораздо лучше пропускает ток в одном направлении, чем в другом. Полярность напряжения, соответствующая большим токам, называется прямой, а меньшим - обратной. Обычно пользуются терминами прямое и обратное напряжение, прямой и обратный ток. Поверхность, по которой контактируют p- и n- слои, называется металлургической границей, а прилегающая к ней область объемных зарядов - электронно-дырочным переходом.

    Электронно-дырочные переходы классифицируют по резкости металлургической границы и соотношению удельных сопротивлений слоев.

    Ступенчатыми переходами (коэффициент плавности перехода m=0,5) называют переходы с идеальной границей, по одну сторону которой находятся дырки, а по другую - электроны. Такие переходы наиболее просты для анализа, поэтому все реальные переходы стараются, если это возможно, рассматривать как ступенчатые.

    Плавными переходами (m = 0,333) называют такие, у которых в области металлургической границы концентрация одного типа примеси постепенно уменьшается, а другого типа - растет. Сама металлургическая граница в этом случае соответствует равенству концентраций примесей. Все реальные p-n-переходы - плавные, степень их приближения к ступенчатым зависит от градиента эффективной концентрации в районе металлургической границы.

    По соотношению концентраций примесей в p- и n-слоях переходы делятся на симметричные, несимметричные и односторонние. Симметричные переходы не типичны для полупроводниковой техники. Основное распространение имеют несимметричные переходы, у которых концентрации не одинаковы. В случае резкой асимметрии, когда концентрации примесей (а значит, и основных носителей) различаются на один-два порядка и более, переходы называются односторонними.

    Вольтамперная характеристика p-n - перехода описывается выражением:

    I = Io[exp(U/Ut) - 1], (1)

    где I - ток через переход при напряжении U, Io - обратный ток, Ut - температурный потенциал, равный при комнатной температуре 26мВ для Si.

    Если к переходу подключить обратное напряжение, то при определенном его значении переход пробивается. Различают три вида пробоя: туннельный, лавинный и тепловой. Первые два связаны с увеличением напряженности электрического поля в переходе, а третий - с увеличением рассеиваемой мощности и, соответственно, температуры.

    В основе туннельного пробоя лежит туннельный эффект, т.е. “просачивание” электронов сквозь тонкий потенциальный барьер перехода. В основе лавинного пробоя лежит “размножение” носителей в сильном электрическом поле, действующем в области перехода. Электрон и дырка, ускоренные полем на длине свободного пробега, могут разорвать одну из ковалентных связей полупроводника. В результате рождается новая пара электрон-дырка и процесс повторяется уже с участием новых носителей. При достаточно большой напряженности поля, когда исходная пара носителей в среднем порождает более одной новой пары, ионизация приобретает лавинный характер, подобно самостоятельному разряду в газе. При этом ток будет ограничиваться только внешним сопротивлением. Явление пробоя находит практическое применение в стабилитронах - приборах, предназначенных для стабилизации напряжения.

    В основе теплового пробоя лежит саморазогрев перехода при протекании обратного тока. С ростом температуры обратные токи резко возрастают, соответственно увеличивается мощность, рассеиваемая в переходе; это вызывает дополнительный рост температуры и т.д. Как правило, тепловой пробой не имеет самостоятельного значения: он может начаться лишь тогда, когда обратный ток уже приобрел достаточно большую величину в результате лавинного или туннельного пробоя.

    Барьерную емкость принято разделять на две составляющие: барьерную емкость, отражающую перераспределение зарядов в переходе, и диффузионную емкость, отражающую перераспределение носителей в базе. Такое разделение в общем условно, но оно удобно на практике, поскольку соотношение обеих емкостей различно при изменении полярности приложенного напряжения. При прямом напряжении главную роль играют избыточные заряды в базе и, соответственно, диффузионная емкость. При обратном напряжении избыточные заряды в базе малы и главную роль играет барьерная емкость. Обе емкости нелинейны: диффузионная емкость зависит от прямого тока, а барьерная - от обратного напряжения.


    Измерения

    DПорядок выполнения работы:

    1.1. Запустите программу EWB 5.12.

    1.2. Соберите схему для исследования параметров полупроводниковых диодов:

    1.2.1. Из библиотеки компонентов источников питания   Sources на поле поместите источник заданного напряжения   и заземление –  .

    1.2.2. Из библиотеки пассивных элементов Basic на поле   поместите резистор  , подстроечный резистор   и ключ  .

    1.2.3. Из библиотеки  индикаторных устройств Indicators   поместите амперметры   и вольтметры  .

    1.2.4. Из библиотеки Diodes   на поле поместить диод  . определенной модели.

    1.2.5. Соедините все компоненты по схеме. Установите необходимые параметры  компонентов:



    Рис.1

    1.3. Снимите вольтамперные характеристики диода, меняя значение подстроечного резистора от 0% до 100% через интервал 20% Увеличение  можно производить нажатием клавиши «R», уменьшение – «Shift+R». Шаг увеличения/уменьшения можно задать.

    1.3.1. Исследуйте прямую ветвь диода. Для переключения ключа используйте клавишу Space (Пробел).

    1.3.2. Исследуйте обратную ветвь диода.

    1.3.3. Полученные данные занесите в таблицу (точность измерения – два знака после запятой):

    Прямая ветвь

    Обратная ветвь

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

    I, мА

    U, мВ

    I, мкА

    U, В

    1.4. Постройте  график вольтамперной характеристики. Примерный вид графика ВАХ представлен на рис. 2.


    1. На основе ВАХ измерить дифференциальное сопротивление диода при прямом напряжении в точке А (рис. 2), определить напряжение изгиба ВАХ. Дифференциальное сопротивление считается по формуле (3) в прямом направлении.

    (3)


    1. Определить напряжение изгиба ВАХ .

    2. Записать характеристики используемых диодов. из справочника

    3. Сделать выводы.

    Контрольные вопросы


    1. Как устроен полупроводниковый диод?

    2. Какой формулой описывается вольтамперная характеристика p - n -перехода?

    3. Назовите типы пробоев p - n -перехода и дайте их краткую характеристику.

    4. Перечислите составляющие емкости p - n -перехода.

    5. Назовите и кратко охарактеризуйте типы полупроводниковых диодов.







    написать администратору сайта