Главная страница
Навигация по странице:

  • Вибір матеріалів друкованої

  • 6.2 Розрахунок мінімальної площі плати

  • 6.3 Розрахунок діаметрів монтажних отворів та діаметрів контакт- них майданчиків

  • Анотація диплом


    Скачать 0.93 Mb.
    НазваниеАнотація диплом
    Дата26.01.2021
    Размер0.93 Mb.
    Формат файлаdocx
    Имя файлаMarynich_PZ.docx
    ТипДиплом
    #171631
    страница6 из 17
    1   2   3   4   5   6   7   8   9   ...   17





    6 ПРОЕКТУВАННЯ ДРУКОВАНОГО ВУЗЛА
    У ході проектування плати металошукча необхідно розрахувати всі па- раметри друкованого монтажу. Це дозволить створити друковану плату оп- тимальних розмірів і з потрібною функціональністю.


      1. Вибір матеріалів друкованої плати

    Основними критеріями вибору матеріалу для друкованої плати є:

        • стріла прогину й жолоблення;

        • довгостроково робоча температура, що допускається;

        • міцність на відшаровування фольги;

        • час стійкості до дії розплавленого припою;

    −вартість.
    Матеріалом основи обираємо: FR-4-2 — склотекстоліт фольгований для ДДП. Склотекстоліт має високу механічну міцність, термостійкість, низькі втрати, високий поверхневий опір [8].
    Так як обрано двосторонню друковану плату, доцільно виготовляти її комбінованим позитивним методом. Даний метод є простим у використані і потребує не досить значних затрат [9].

    Фоторезистом захищають прогалини. Потім на всю поверхню плати на- носять лакову сорочку (оболонку), свердлять монтажні отвори і виконують хімічне міднення (вся плата покривається тонким шаром міді - в декілька мі- крон). Хімреактивом знімається лакова оболонка, а з нею - мідь, (крім того шару, що осів на стінках отворів, бо під ним немає лаку). Далі в гальванічній ванні нарощують мідь в отворах, і на незахищених фоторезистом місцях фо- льги(місця провідників і контактних майданчиків).Потім па провідники та контактні майданчики наносять захисний шар металу і усувають фоторезист
















    РВ21.468213.001 ПЗ









































    з незахищених місць (прогалин). Оголений шар фольги стравлюють. Таким чином, метод поєднує хімічний метод отримання провідникового рисунку і гальванохімічний метод металізації отворів. Метод є основним при виготов- ленні двосторонніх друкованих плат. Застосовують його для багатошарових ДП з діелектриком, що травиться , для односторонніх ДП з підвищеними ви- могами до надійності.ЕРЕ можна встановлювати з щілиною між поверхнею плат. Дорожчий від хімічного [9].

    Недоліками субтрактивних методів с неможливість отримати провідни- ки вужче 150 мкм. а також великі відходи міді при травленні, але це не кри- тично, адже розрахована далі ширина провідників знаходиться в межах нор- ми [10].

    6.2 Розрахунок мінімальної площі плати
    Для розрахунку мінімальної площі друкованої плати необхідно врахува- ти розміри всіх елементів плати. малогабаритних, середньогабаритних та ве- ликогабаритних ЕРЕ.
    Розрахунок мінімальної площі плати виконуються згідно формули (1)

    [15]:
    S=2.+5S=мгcг1.5 Sвг1.2 S(6.1)
    де Sмг —сумарна встановлювальна площа малогабаритних ЕРЕ; Sсг — сумарна встановлювальна площа середньогабаритних ЕРЕ; Sвг сумарна встановлювальна площа великогабаритних ЕРЕ;

    У таблиці 6 приведені розрахунки площі друкованої плати металошука-

    ча.
















    РВ21.468213.001 ПЗ










































    Таблиця 6 Площі елементів дркованої плати

    З розрахованих розмірів площі плати обираємо її габарити згідно [16].

    а=100; b=110;

    S=a·b=100·110=11000мм
    6.3 Розрахунок діаметрів монтажних отворів та діаметрів контакт- них майданчиків
    Для розрахунку діаметрів монтажних отворів., діаметрів або отворів ко- нтактних майданчиків використовують формулу (2)[15].
    1

    D = (d +∆+d+)+2b+ t+ 2+ t (T2 T2 t2 )2 (6.2),

    min 0 в.о. в.о. т. рd. Dно. .


    де ∆d в.о— верхнє граничне відхилення діаметру отвору;
















    РВ21.468213.001 ПЗ






































    Назва

    а_ел.

    в_ел

    Sел

    Кіль

    кість

    S

    H вис.

    Atmega 8

    13

    38

    495

    1

    495

    5

    X1-X3

    8

    3

    24

    3

    72

    0

    BC546

    5

    5

    25

    4

    100

    5.2

    IRFZ 44

    13

    7

    91

    1

    91

    10

    LCD1206

    81

    37

    3000

    1

    3000

    12

    HEF4066

    13

    21

    273

    1

    273

    5

    TL074

    13

    21

    273

    1

    273

    5

    lm7805

    5.5

    5.5

    30.25

    1

    31

    5

    2N700

    5.5

    5.5

    30.25

    2

    31

    5

    1N4148

    10

    5

    50

    2

    100

    5

    1N5819

    10

    5

    50

    1

    50

    5

    Res

    0.125W

    13

    6

    78

    39

    3050

    5

    Res 0.5W

    16

    7

    112

    2

    225

    5

    Cap220

    15

    15

    225

    2

    450

    10

    Capce

    5

    4

    20

    27

    540

    6

    Сумарна площа



    9000 мм2








    tв.о— верхнє граничне відхилення діаметру контактного майданчика;
    tтр— значення підтравлення діелектрику в отворі;
    tн.о— нижнє граничне відхилення діаметру контактного майданчика та ширини друкованого провідника;
    Td— значення позиційного допуску розташування осей отворів у діаме- тральному вираженні;
    TD— значення позиційного допуску розташування центрів контактних майданчиків у діаметральному вираженні;
    Розраховані за формулою (2) діаметри приведені у таблиці 12
    Таблиця 7 Розрахунки параметрів елементів
















    РВ21.468213.001 ПЗ






































    Найменування ЕРЕ

    Діаметр виводу, мм

    Діаметр отвору,мм

    Діаметр контактно- го майданчика, мм

    МК AVR

    ATmega8

    0,38

    0,58

    1,27

    Резистор типу

    С2-23(0.125-0.5)

    0,6

    0,8

    1,4

    Конденсатор елек- тролітичний

    К50-35

    0,8

    1

    1,7

    Діод типу1N4148

    0,46

    0,66

    1,3

    Операційний під-

    0,5

    0,7

    1,4






    Таблиця 7 (Продовження)
















    РВ21.468213.001 ПЗ






































    силювач типу

    TL074













    Найменування ЕРЕ Ді

    аметр виводу,

    мм

    Діаметр отвору,мм

    Діаметр контак- тного майдан-

    чика, мм

    Мікросхема цифро аналогових ключів типу

    HEF4066

    0,49

    0,69

    1,3

    Керамічний кон- денсатор

    типу К10-17

    0,5

    0,7

    1,4

    Польовий транзис- тор типу MOSFET

    IFRZ 44

    0,9

    1,1

    1,8

    Транзистор BC 546

    0,48

    0,68

    1,4

    Транзистор 2N700

    0,48

    0,68

    1,4
    1   2   3   4   5   6   7   8   9   ...   17


    написать администратору сайта