4 Ионно-плазменное распыление. Ионноплазменное распыление
![]()
|
МИНОБРНАУКИ РОССИИ Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина) Кафедра микрорадиоэлектроники и технологии радиоаппаратуры отчет по индивидуальному домашнему заданию №4 по дисциплине «Физические основы микро- и наноэлектроники» Тема: Ионно-плазменное распыление.
Санкт-Петербург 2017 Задание. Рассчитать скорость распыления v при ионно-плазменном распылении для ионов аргона и соответствующей мишени М2 для плотности тока j1 (А/см2) и коэффициента распыления S. Скорость распыления. Процесс распыления также характеризуется скоростью распыления ν, определяемой по толщине слоя вещества, удаляемого в единицу времени и рассчитанной по формуле (1). ![]() где ![]() ![]() Скорость распыления для аргона Дано. ![]() ![]() ![]() ![]() Решение:_Расчёт_скорости_распыления_v_при_ионно-плазменном_распылении_для_аргона:_Ответ'>Решение: Расчёт скорости распыления v при ионно-плазменном распылении для аргона: ![]() Ответ: ![]() Скорость распыления для мишени М2(Cu) Данo. ![]() ![]() ![]() ![]() Решение. Расчёт скорости распыления v при ионно-плазменном распылении для меди(cu): ![]() Ответ. ![]() Вывод. Скорость распыления при ионно-плазменном распылении зависит от материала мишени, плотности подаваемого тока и коэффициента распыления. |