4 Ионно-плазменное распыление. Ионноплазменное распыление
Скачать 29.18 Kb.
|
МИНОБРНАУКИ РОССИИ Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина) Кафедра микрорадиоэлектроники и технологии радиоаппаратуры отчет по индивидуальному домашнему заданию №4 по дисциплине «Физические основы микро- и наноэлектроники» Тема: Ионно-плазменное распыление.
Санкт-Петербург 2017 Задание. Рассчитать скорость распыления v при ионно-плазменном распылении для ионов аргона и соответствующей мишени М2 для плотности тока j1 (А/см2) и коэффициента распыления S. Скорость распыления. Процесс распыления также характеризуется скоростью распыления ν, определяемой по толщине слоя вещества, удаляемого в единицу времени и рассчитанной по формуле (1). (1) где – молярная масса мишени, – плотность тока ионов, S - коэффициент распыления, ρ - плотность вещества мишени. Скорость распыления для аргона Дано. Решение:_Расчёт_скорости_распыления_v_при_ионно-плазменном_распылении_для_аргона:_Ответ'>Решение: Расчёт скорости распыления v при ионно-плазменном распылении для аргона: Ответ: Скорость распыления для мишени М2(Cu) Данo. Решение. Расчёт скорости распыления v при ионно-плазменном распылении для меди(cu): Ответ. Вывод. Скорость распыления при ионно-плазменном распылении зависит от материала мишени, плотности подаваемого тока и коэффициента распыления. |