Курс лекций по дисциплине Электроника и схемотехника 1
Скачать 1.54 Mb.
|
Министерство сельского хозяйства Республики КазахстанКазахский агротехнический университет имени С. СейфуллинаКраткий курс лекций по дисциплине «Электроника и схемотехника 1» специальность - «Радиотехника электроника и телекоммуникации» Нур - Султан 2020Лекция 1. Электропроводность полупроводников В основе электроники и схемотехники лежит применение полупроводниковых приборов. Полупроводники занимают по электропроводности промежуточное положение между металлами и диэлектриками. Различие в электропроводности веществ обусловлено различием в. различием в разрешенных значениях уровней энергии электронов. При образовании кристалла энергетические уровни атомов расщепляются, что приводит к образованию зон, состоящих из близко расположенных друг к другу энергетических уровней. На энергетической диаграмме чистого полупроводника (рисунок 1.1, а) показаны: В - валентная зона, все уровни которой, при температуре абсолютного нуля, заполнены электронами; С - зона свободных электронов (зона проводимости). На уровни зоны проводимости могут переходить электроны при возбуждении атомов. З- запрещенная зона, энергетические уровни в которой отсутствуют. Наличие запрещенной зоны означает, что для перехода в зону проводимости электрону необходимо сообщить энергию, большую чем энергия запрещенной зоны W. У металлов нет запрещенной зоны и валентная зона непосредственно соприкасается с зоной проводимости. Поэтому в металлах число свободных электронов велико, что и обеспечивает их высокую электрическую и тепловую проводимость. У изоляторов ширина запрещенной зоны велика ( W > 4 эВ) и при обычных условиях электроны проводимости практически отсутствуют. Ширина запрещенной зоны W у наиболее распространенных полупроводников — германия (Ge) и кремния (Si) —составляет соответственно 0,72 и 1,12 эВ. Эти полупроводники принадлежат к IV группе элементов таблицы Менделеева и имеют по четыре валентных электрона. На рисунке 1.1,а показана также схема кристаллической решетки этих полупроводников, где связи, образованные валентными электронами, обозначены двойными линиями. W а) б) в) Рисунок 1.1 - Зонная диаграмма полупроводников Из - за относительно узкой запрещенной зоны у Ge и Si уже при температуре, близкой к комнатной, некоторые электроны получают энергию, достаточную для того чтобы преодолеть запрещенную зону. В результате электрон переходит из валентной зоны в зону проводимости. При уходе электрона, в валентной зоне остается незаполненный энергетический уровень, называемый дыркой. В кристаллической решетке при этом происходит разрыв одной из валентных связей в кристалле полупроводника и появление свободного электрона. Свободный электрон начинает свободно перемещаться по кристаллу. Узел решетки, лишенный одного из электронов связи, становиться дыркой. Оборванная связь может быть восстановлена, если ее возобновит электрон из соседней связи. Процесс восстановления связей за счет перемещения электронов от одного атома решетки к другому, в валентной зоне, удобно представить в виде противоположно направленного движения дырок, которым приписывается положительный заряд. Таким образом, в кристалле полупроводника происходит перемещение как свободных электронов, так и дырок . Процесс образования в чистом полупроводнике пары электрон в зоне проводимости и дырка в валентной зоне называется генерацией собственных носителей зарядов. Одновременно с процессом генерации носителей зарядов протекает процесс их рекомбинации - встречи электронов с дырками, сопровождающийся возвратом электрона из зоны проводимости в валентную зону и исчезновением свободных зарядов. Чаще всего рекомбинация происходит на дефектах кристаллической решетки. Эти дефекты служат центрами рекомбинации. Среднее время между моментами генерации и рекомбинации называется временем жизни носителя заряда. Благодаря рекомбинации количество носителей заряда в полупроводнике не увеличивается и при постоянной температуре неизменно. Концентрации дырок и электронов в чистом полупроводнике равны между собой, т.е. рi= ni( индекс i означает, что полупроводник собственный). В рабочем диапазоне температур концентрация электронов и дырок в чистом полупроводнике невелика. Поэтому по своим электрическим свойствам, чистый полупроводник близок к диэлектрикам. Введение в чистый полупроводник даже небольших количеств примесей приводит к резкому изменению характера электропроводности. При введении в кремний или германий атомов примесей V группы элементов таблицы Менделеева, имеющие на внешней оболочке по пять валентных электронов - донорная примесь, один из валентных электронов оказывается лишним и не образует связи с соседними атомами полупроводника. На энергетической диаграмме этому электрону соответствует локальный энергетический уровень, расположенный в верхней части запрещенной зоны (рисунок 1.1,б) и заполненный при температуре абсолютного нуля. Близость локальных уровней к зоне проводимости приводит к тому, что уже при небольшом нагреве атомы примеси ионизируются и отдают дополнительный электрон. В результате число свободных электронов увеличивается. Образование свободных электронов при ионизации донорной примеси сопровождается появлением в узлах кристаллической решетки неподвижных положительных зарядов - ионов примеси. Обмен электронами между атомами примеси невозможен, так как атомы примеси удалены друг от друга и при комнатной температуре все ионизированы. Таким образом, ионизация атомов примеси не приводит к увеличению концентрации дырок, которые образуются только при разрыве связей между атомами полупроводника. Поэтому при введении донорной примеси концентрация свободных электронов оказывается значительно больше концентрации дырок и электропроводность определяется в основном электронами. В этом случае электроны называют основными носителями (их концентрация обозначается nn), а дырки - неосновными (концентрация рn). Такой полупроводник называется полупроводником п-типа. Однако, несмотря на преобладание в примесном полупроводнике подвижных носителей одного знака, полупроводник в целом электрически нейтрален, так как избыточный заряд подвижных носителей компенсируется зарядом неподвижных ионов примесей. Для полупроводников n - типа справедливо равенство концентрации отрицательных и положительных зарядов: nn= pn + NД NД где NД - концентрация донорной примеси. Так как концентрация дырок в полупроводнике п - типа мала, то концентрация электронов примерноравна концентрации атомов донорной примеси . При введении в кремний или германий примесей элементов III группы, называемых акцепторными, в кристаллической решетке (рисунок 1.1, в), в месте расположения атома примеси появляется дополнительный энергетический уровень, расположенный вблизи валентной зоны и незаполненный при температуре абсолютного нуля. За счет прихода электрона от соседнего атома основного вещества (например, при нагреве до комнатной температуры) образуется отрицательный ион примеси, а на месте оборванной связи положительный заряд - дырка. Локальные энергетические уровни примесей расположены теперь около валентной зоны и легко берут на себя электроны из этой зоны, приводя к образованию дырок. Основными носителями при этом становятся дырки, а неосновными носителями становятся электроны. Избыточный заряд дырок уравновешивается зарядом отрицательных ионов, при этом сохраняется электрическая нейтральность полупроводника. Полупроводник с акцепторной примесью называется полупроводником р - типа, для которого справедливо: pp = np + Na Na , где Na — концентрация акцепторных примесей. Поскольку в диапазоне комнатных температур все атомы акцепторной примеси ионизированы (приняли дополнительный электрон), концентрация основных носителей в указанном рабочем диапазоне температур не зависит от температуры. |