Расчёт параметров и характеристик идеального (резкого) pnперехода
Скачать 1.15 Mb.
|
Лабораторная работа № 2 Тема: Расчёт параметров и характеристик идеального (резкого) p-n-перехода Цель работы: освоить методику расчёта важнейших параметров и характеристик идеального p-n-перехода и усвоить их взаимосвязь 1 Краткие теоретические сведения о параметрах контактов металл-полупроводник и р-n-перехода. Основные расчетные соотношения Контактная разность потенциалов контакта металл – полупроводник: , (2.1) где – термодинамическая работа выхода электронов из полупроводника, – термодинамическая работа выхода электронов из металла (рисунок 2.1). Потенциал (высота) барьера Шоттки: , (2.2) где – сродство к электрону, эВ. Ширина области пространственного заряда (ОПЗ) в полупроводнике (рисунок 2.1, б): (2.3) где – диэлектрическая проницаемость полупроводника; еь электрическая постоянная; V – величина приложенного к контакту напряжения смещения; N – концентрация примеси в полупроводнике. Рисунок 2.1 – Энергетические диаграммы p-n перехода: а) до их приведения в контакт; б) в равновесном состоянии Напряженность электрического поля в ОПЗ полупроводника: (2.4) Уравнение ВАХ контакта металл-полупроводник (теория термоэлектронной эмиссии-диффузии): (2.5) где – диффузионная составляющая скорости носителей qNc заряда на границе раздела структуры металл - полупроводник (– эффективная постоянная Ричардсона; – скорость дрейфа носителей заряда в ОПЗ; – максимальное значение напряженности электрического поля в полупроводнике (при V = 0). Если , то справедлива теория термоэлектронной эмиссии (теория Бете) и выражение для плотности тока преобразуется к виду: (2.6) В том случае, когда , определяющим является процесс диффузии (теория Шоттки) и плотность тока вычисляется по формуле: (2.7) Контактная разность потенциалов р-n-перехода: (2.8) где – термодинамическая работа выхода электронов из полупроводника p-типа проводимости; – термодинамическая работа выхода электронов из полупроводника n-типа проводимости (рис.5.2,а); Na, Nd– концентрация акцепторов и доноров соответственно. Максимальная величина напряженности электрического поля Еmах в р-n-переходе: (2.9) где Wp и Wn– толщина обедненных областей в р- и n-областях р-n-перехода, определяемая соотношениями (2.10) Толщина слоя объемного заряда для резкого р-n-перехода W, равная W= Wp+ Wn: (2.11) Толщина слоя объемного заряда для плавного р-n-перехода: (2.12) где а – градиент концентрации примесей. Плотность тока насыщения (обратного тока) р-n-перехода: (2.13) где и – равновесная концентрации неосновных носителей заряда. Рисунок 2.2 – Энергетические диаграммы полупроводников p- и n- типа проводимости: а) до приведения их в контакт; б) p-n-переход в равновесном состоянии Уравнение ВАХ p-n-перехода: , (2.14) где j– плотность тока, протекающего через р-n-переход при приложении к нему внешнего напряжения смешения V. Величина удельной барьерной емкости резкого р-n-перехода: (2.15) где Nв– концентрация примеси в высокоомной области р-n-перехода. Величина удельной барьерной емкости плавного р-n-перехода: (2.16) Дифференциальное сопротивление р - п-перехода: (2.17) где и – величины силы тока при прямом и обратном смешениях р-n-перехода соответственно. Напряжение пробоя резкого несимметричного р-n-перехода: (2.18) Напряжение пробоя линейно-плавного р-n-перехода: (2.19) Барьерная емкость p-n перехода: , (2.20) где S – площадь перехода. Диффузионная длина носителей заряда Ln,p выражается формулой , (2.21) где Dn,p – коэффициенты диффузии носителей; τn,p – время жизни носителей. Соотношения Энштейна: , (2.22) (2.23) Если , , обратный ток необходимо вычислить по формуле: . (2.24) 2 Расчётное задание. Вариант№2.
1.Рассчитать контактную разность потенциалов на p-n-переходе. Чтобы найти контактную разность потенциалов, воспользуемся формулой (2.8): Решение: Ответ: 2.Рассчитать полную ширину d запирающего (обеднённого зарядами) слоя p-n-перехода, а также ширину частей этого слоя в р- и n-областях перехода. Решение: Чтобы вычислить ширину частей этого слоя в р- и n-областях перехода, можно воспользоваться формулой (2.10). , Чтобы вычислить ширину p-n-перехода, можно воспользоваться формулой (2.11). Ответ.; 3. Рассчитать и построить распределение напряжённости электрического поля в запирающем слое p-n-перехода вдоль оси Х, направленной слева на право от области р к области n перехода. Определить максимальное значение напряжённости электрического поля в переходе. Решение: Чтобы определить максимальное значение напряжённости электрического поля в переходе, воспользуемся формулой (2.9): (В/м). Чтобы рассчитать и построить распределение напряжённости электрического поля в запирающем слое p-n-перехода вдоль оси Х, направленной слева на право от области р к области n перехода, воспользуемся расчетными данными из 2 задания Eet=Ee=- -Xp = Xn= Emax=(В/м) Ответ: 4. Рассчитать и построить распределение потенциала электрического поля в запирающем слое p-n-перехода вдоль оси Х, направленной слева на право от области р к области n перехода. Принять значение потенциала в р-области вдали от перехода равным φр = 0. Решение: Из условия дано φр = 0, следовательно, φk= φn. Зная φn выражения принимают следующий вид: 5.Рассчитать обратный ток насыщения I0 через p-n-переход. На основании полученного значения I0 рассчитать и построить вольт-амперную характеристику идеального p-n-перехода для значений напряжения на переходе, лежащих в диапазоне: -10 В ≤ U ≤ 2 В. Решение: Воспользуемся формулой : , Примем концентрации основных носителей заряда: Концентрации неосновных носителей заряда выразим из закона действующих масс (1): Чтобы найти Ln,Lp воспользуемся формулой 2.21: ; Чтобы найти Dn,Dp воспользуемся соотношением: Уравнение ВАХ p-n-перехода: . Пример расчётов: при : при : Ответ: I0= (А). 6.Рассчитать и построить зависимости барьерной и диффузионной ёмкостей p-n-перехода от значения приложенного к переходу напряжения. Для расчета диффузионной емкость используем формулу: , При U=0.7(В): Для барьерной ёмкости следует использовать напряжения из диапазона: -10 В ≤ U ≤ (φк – 0,1) В. Рисунок 4 – Вольт-фарадная характеристика перехода Расчёт и построение зависимости диффузионной ёмкости p-n-перехода от значения приложенного к переходу напряжения производиться по полной формуле (2.8) [3]:
где
Тогда при значении напряжения U=1 В значения , равны:
Из формулы (2.8) [3]:
Из формулы (3.2) выводим следующее [3]:
где
Тогда при значении напряжения U=0.7 В значения , равны:
Однако, если в p-n-переходе ток инжекции электронов и ток инжекции дырок различаются на два и более порядков, можно использовать упрощенную формулу диффузионной емкости. При этом необходимо использовать значение тока, величина которого больше. Меньшим же значением можно пренебречь. В данном случае ток инжекции дырок больше, поэтому упрощенная формула имеет вид [3]:
Для диффузионной ёмкости следует использовать напряжения из диапазона: 0 B ≤ U ≤ U*, где U* - прямое напряжение на p-n-переходе, соответствующее току через переход I = 1 А. Рисунок 5 - Зависимость диффузионной ёмкости p-n-перехода от значения приложенного к переходу напряжения 7. Для вычисления статического сопротивления необходимо рассчитать значения тока, используя заданное значение сопротивления c помощью формулы (2.6): Вычисление статическое сопротивление p-n-перехода для значения прямого внешнего напряжения на переходе UВ производиться по формуле [1]:
Вычисление дифференциального сопротивления p-n-перехода производиться по формуле [1]:
Ответ: rc = rd = ВЫВОД: При выполнении работы была освоена методика расчёта энергетических параметров контактов металлов и полупроводников, таких как контактная разность потенциалов, обратный ток насыщения и его плотность, диффузионная и барьерную ёмкость p-n перехода. Также в расчетах был обоснован выбор выражения для расчета вольтамперной характеристики p-n перехода 30 Лабораторная работа № 2 Окорочков А.И. ИСОиП (филиал) ДГТУ Кафедра РЭСиК Разраб. Провер. 3.3 Реализация задачи Н.контр. Утв. Лит Лист Изм Подпись Дата Лист Листов 15 ФОМЭ.030000.000 ЛР № докум. |