Главная страница
Навигация по странице:


  • КР ФОЭТ. Учебнометодическое пособие для студентов специальности 136 04 02 Промышленная электроника


    Скачать 451.5 Kb.
    НазваниеУчебнометодическое пособие для студентов специальности 136 04 02 Промышленная электроника
    АнкорКР ФОЭТ.doc
    Дата14.09.2018
    Размер451.5 Kb.
    Формат файлаdoc
    Имя файлаКР ФОЭТ.doc
    ТипУчебно-методическое пособие
    #24561
    страница5 из 5
    1   2   3   4   5

    Алгоритм решения задач
    Аналитическое выражение для величин диффузионных емкостей:
    Сдиф=(kT/q)*I*τn , (1)
    где Сдиф – величина диффузионной ёмкости p-n перехода (диода) с широкой

    базой (WБ > Lp), пФ;
    Индексы “n” и “p” у времён жизни и у диффузионных длин обозначают тип неосновных носителей заряда в базе. База – наиболее слаболегированная область p-n перехода.
    Сдиф=(kT/q)*I*tпр, (2)
    где Сдиф – величина диффузионной ёмкости p-n перехода (диода) с тонкой

    базой (WБ < Lp), пФ;

    tпр=W2Б/2 Dn или tпр=W2Б/2Dp;
    Индекс у коэффициента диффузии (D) обозначает тип неосновных носителей в базе.
    I=Is (exp qU/kT – 1); (3)

    где U – приложенное к p-n переходу напряжение, В;

    IS=ISp+ ISn;

    ISp= S*( q*n2i*Dp/Nd(Wp или Ln)) и ISn= S*( q* n2i *Dn/Na(Wp или Ln));

    В знаменатели выражений для токов насыщения подставляется Wp и Wn, когда Wpn, а Wn < Lp, и Ln и Lp, когда Wp > Ln, а Wn > Lp.

    Dpр*( kT/q); Dnn*( kT/q); µ=µ0/[ 1+ ( N/1017)1/2]

    где µ0 – подвижность в собственном полупроводнике при 300 К;

    N- концентрация легирующей примеси;

    Величины k, q – брать из таблицы 1.

    Величины µ0, ni – брать из таблицы 2.

    Чтобы решить, какое выражение для величины Сдиф. (1) или (2) использовать, нужно определить соотношение между L и WБ, L=√Dτ.

    3. Условие задач, имеющих номера с 21 по 27
    Рассчитать величины токов инжекции, генерации и рекомбинации p-n перехода (диода) площадью 10-3 см2 и со следующими параметрами:
    Таблица 4 – Данные к задачам

    Материал

    Концентрация легирующей примеси

    Время жизни

    неосновных носителей

    Ширина базы WБ, мкм

    Ширина эмиттера WЭ, мкм

    Приложенное

    напряжение

    U, В

    Темпера-тура, K

    Вариант

    в

    n-области Nd, см-3

    в

    р-области

    Nа, см-3



    τn


    τp

    Кремний

    1018

    1016

    5*10-6

    10-6

    1

    2

    0,2

    300

    21

    Германий

    1018

    1016

    5*10-6

    10-6

    1

    2

    0,2

    300

    22

    Арсенид

    галлия

    1018

    1016

    5*10-6

    10-6

    1

    2

    0,2

    300

    23

    Кремний

    1016

    1018

    10-6

    10-5

    10

    2

    0,5

    300

    24

    Арсенид

    галлия

    1016

    1018

    2*10-6

    3*10-5

    10

    2

    0,5

    300

    25

    Кремний

    1017

    1016

    10-6

    10-5

    1

    2

    0,3

    400

    26

    Германий

    1016

    1017

    10-6

    10-5

    1

    2

    0,3

    400

    27

    Алгоритм решения задачи
    Записывайте выражения для расчетов токов Iин, генерации Iген и рекомбинации Iрек.

    Iин=Is (exp qU/kT – 1); Iген=S*(q*ni*Xd/2τ0); Iрек=S*(q*ni*Xd/2τ0)*exp qU/2kT;
    Токи насыщения ISp и ISn, находите по выражениям, приведённым в концепции вариантов № 11-20.

    Ширины запрещённых зон находите по выражениям, приведённым в концепции вариантов № 1-10.

    Время жизни свободных носителей в обеднённой области p-n перехода τ0 определяется как τ0= (τn+ τp)/2.

    4.Условие задач, имеющих номера с 28 по 36
    Рассчитать коэффициент передачи постоянных токов эмиттера αN, базы βN, коллектора αI идеализированной модели биполярного n-p-n транзистора.


    Материал

    Темпера-тура, K

    Ширина, мкм

    Концентрация легирующей примеси, см-3

    Время жизни электронов

    в базе τn

    Вариант

    Эмиттера WЭ, мкм

    Коллектора

    WК, мкм

    Базы WБ, мкм

    В эмиттере

    Ndэ

    В базе

    NdБ

    В коллекторе

    Ndк

    Кремний

    400

    2

    4

    1

    1018

    1016

    1016

    10-6

    28

    Германий

    300

    2

    4

    1

    1018

    1016

    1016

    5*10-7

    29

    Арсенид

    галлия

    400

    2

    4

    1

    1018

    1016

    1016

    10-6

    30

    Кремний

    300

    2

    2

    1

    1018

    1017

    1016

    10-6

    31

    Кремний

    200

    2

    2

    0,5

    1018

    1016

    1017

    10-6

    32

    Германий

    300

    2

    2

    1

    1018

    1016

    1017

    5*10-6

    33

    Арсенид

    галлия

    400

    2

    2

    0,5

    1018

    1017

    1016

    10-6

    34

    Кремний

    300

    2

    3

    0,3

    1018

    1017

    1016

    10-6

    35

    Арсенид

    галлия

    300

    2

    3

    0,3

    1018

    1017

    1018

    10-6

    36

    Алгоритм решения задач
    Коэффициент передачи постоянного тока эмиттера:
    αN=Iэn/Iэ* Iкn/Iэn* Iкn / IkN * αT * M;

    где М=1;

    γN – коэффициент инжекции при нормальном включении транзистора
    γN= Iэn/( Iэn+ Iэp)=1/(1+ Iэp/ Iэn)=[1+(WБ*NАБ*Dpэ/ WЭ*Ndэ*DnБ)]-1;
    где коэффициенты диффузии дырок в эмиттере Dpэ и электронов в базе DnБ

    определяются из соотношения Эйнштейна. D=*( kT/q).
    В свою очередь величина подвижности носителей заряда в зависимости от концентрации примесей определяется выражением:
    µ=µ0/[ 1+ ( N/1017)1/2],
    где µ0 - подвижность в собственном полупроводнике при 300 K;

    N- концентрация легирующей примеси;
    Выражение для коэффициента переноса носителей через базу αN можно записать как:
    αT = 1- (WБ2/2(4)* DnБ* τn);
    в котором коэффициент 2 подставляем в выражение αT для бездрейфового транзистора, а 4- для дрейфового. Будем полагать, что варианты 28-31 – бездрейфовый транзистор, а варианты 32-36 дрейфовый транзистор.

    Коэффициент усиления тока базы βN рассчитываем по формуле

    ΒN= αN/(1- αN);
    Коэффициент передачи тока коллектора (инверсное включение транзистора) рассчитываем по формуле:
    αII* αT;
    где γI=( 1+(WБ*NАБ*Dpk/ WК*Ndk*DnБ))-1;
    где Dpk – коэффициент диффузии дырок в коллекторе.
    αT = 1- (WБ2/2* DnБ* τn), т.е. считаем, что электрическое поле в базе отсутствует ( хотя оно будет тормозящим).

    5. Условие задач, имеющих номера с 37 по 50

    Рассчитать величину порогового напряжения Uпор и частоту отсечки кремниевых МОП – транзисторов со следующими параметрами


    Тип канала n или p

    Тип

    затво-ра

    Толщина подзатвор-ного

    диэлектрика d, нм

    Концентрация примеси в подложке Nn, см-3

    Плотность поверхност-ных состояний Nnс,

    см-2

    Длина

    канала L, мкм

    Напря-жение на затворе, Uзи

    Эффективная подвижность носителей в канале µ, см2\В*с

    Темпера-тура, К

    Вариант

    n

    AL

    70

    1015

    1010

    3

    Uзи=2Uпор

    500

    300

    37

    p

    AL

    70

    1015

    1010

    2

    Uзи=2Uпор

    200

    300

    38

    n

    n-поли-кремний

    70

    1015

    1010

    3

    Uзи=2Uпор

    500

    300

    39

    p

    n-поли-кремний

    50

    1015

    1010

    4,5

    Uзи=2Uпор

    200

    300

    40

    n

    p-поли-кремний

    50

    5*1015

    1010

    1,5

    Uзи=2Uпор

    500

    300

    41

    p

    p-поли-кремний

    60

    1015

    1010

    2

    Uзи=2Uпор

    220

    300

    42

    n

    AL

    50

    5*1015

    1010

    4,5

    Uзи=3Uпор

    500

    300

    43

    p

    AL

    50

    5*1015

    5*1010

    2

    Uзи=2Uпор

    200

    300

    44

    n

    n-поли-кремний

    40

    5*1015

    1010

    1,5

    Uзи=2Uпор

    500

    300

    45

    p

    p-поли-кремний

    40

    1016

    5*1010

    2

    Uзи=2Uпор

    220

    300

    46

    n

    p-поли-кремний

    40

    5*1015

    1010

    5

    Uзи=2Uпор

    500

    400

    47

    p

    n-поли-кремний

    40

    1016

    1010

    4

    Uзи=2Uпор

    200

    400

    48

    n

    AL

    50

    1015

    1010

    4

    Uзи=2Uпор

    500

    400

    49

    p

    AL

    40

    1015

    1010

    4

    Uзи=2Uпор

    200

    400

    50
    Алгоритм решения задач
    Решение задач следует начать с записи конечного выражения для искомых величин, затем находить частные величины, входящие в окончательную величину.

    Uпормп-Qпс0± Qос0± Qк0,

    где φмп – разность работ выхода металл затвора - полупроводник (в вольтах);

    Qпс – удельный заряд плотности поверхностных состояний;

    Qос – удельный заряд обеднённого слоя;

    Qк – удельный заряд, необходимый для образования канала;

    С0 – удельная ёмкость затвора

    Для алюминиевого затвора: φмп=-0,6 ±φF.

    Для поликремниевого затвора n+ - типа: φмп= - φg /2±φF.

    Для поликремниевого затвора p+ - типа: φмп= φg /2±φF.

    Знак “-“ подставляется в выражение для определения φмп транзистора с p-подложкой, а знак “+“ подставляется для определения φмп транзистора с n-подложкой.

    φF – разница энергий между уровнем Ферми и серединой запрещенной зоны.

    φF=kT/q*ln Nп/ni;

    φgШирина запрещенной зоны полупроводника в вольтах.
    Знак «+» перед величинами правой части выражения для определения Uпор подставляется для n-канальных МОП-транзисторов, а знак «-» для p-канальных.
    С0=εε0/d, Qпс=q*Nnc, Qк=2φF;
    Qос=q*Nn*Xdэ; Xd =(2*εε0*2 φF / q*Nn)1/2,
    где d - толщина подзатворного диэлектрика, Nnc – потность поверхностного состояния.
    Частота отсечки fT определяется выражением:
    fTэфф*( Uзи-Uпор)/2πL2;
    После нахождения величины Uпор. Все параметры необходимые для вычисления fT известны.

    Величины Egg), q, k, ε0, εSi, εSiO2, µ0 взять из таблиц 1 и 2.

    6. Условие задач, имеющих номера 51-60
    Рассчитать минимальную длину lk и ширину Z канала n-канального кремниевого мощного СВЧ V-МОП транзистора, имеющего следующие параметры


    Выходная мощность,

    Р1 Вт

    Подвижность носителей в канале µno, см2.с

    Плотность поверхностных состояний Nnc,

    См-2

    Толщина подзатворного диэлектрика, d нм

    Тип затвора

    Концентрация примесей в подложке Na, см-3

    Темпе-

    ратура

    τ, оС

    Напряже

    ние на

    затворе

    Uзи, В

    Максимальное напряжение сток - исток

    Uси max, В


    Вариант

    80

    600

    1010

    50

    AL

    5.1015

    300

    4

    65

    51

    85

    650

    2.1010

    60

    n-поликремний

    1015

    400

    2

    70

    52

    75

    600

    9.109

    45

    AL

    1015

    300

    3

    65

    53

    80

    650

    1010

    60

    AL

    5.1015

    350

    2

    70

    54

    75

    600

    1010

    75

    p-поликремний

    1015

    250

    3

    75

    55

    85

    620

    1010

    70

    AL

    5.1015

    400

    4

    65

    56

    80

    600

    1010

    60

    n-поликремний

    1015

    350

    3

    75

    57

    75

    600

    1010

    50

    р-поликремний

    1015

    300

    3

    70

    58

    80

    600

    1010

    55

    AL

    1015

    350

    4

    65

    59

    85

    600

    1010

    45

    AL

    5.1015

    300

    3

    70

    60

    Алгоритм решения задач
    Минимальную длину канала lk (Uси пр.) найдем из условия сквозного обеднения


    За величину Uси пр. принимаем величину Uси max .

    Минимальную ширину канала находим из выражения:
    . ,
    где = 20 В; = 0,0534 В-1 - эмпирический коэффициент, характеризующий уменьшение подвижности под действием поперечного поля затвора; - коэффициент характеризующий влияние подложки р-типа на ток стока находим из следующего выражения

    При заданном напряжении Uзи ток стока достигает своего максимального значения при напряжении насыщения

    Разницу величин работы выхода материал затвора – кремний можно определить, пользуясь алгоритмом решения задач 37…50.
    1   2   3   4   5


    написать администратору сайта